微小部蛍光X線分析装置(XRF)

概要

 蛍光X線(XRF)分析装置は、試料にX線を照射し発生する蛍光X線を測定することで元素の確認(定性)や、検出された各元素のピーク強度を理論計算(FP法)することで大まかな含有量(半定量)を得ることができる装置です。

 金属,半導体,有機物及びセラミックスとあらゆる固体に対応でき、元素情報を得るための入り口的な装置として、中小企業から大企業の多種多様なニーズに対応できる装置です。

装置

メーカー

SIIナノテクノロジー

型式

SEA6000VX  HSFinder

仕様

X線源

7,800~150cm-1  /  波数分解能(最高):0.07cm-1

X線照射向き

顕微赤外、顕微ATR、顕微RAS、拡散反射、一回反射ATR

分析領域

200μm,500μm,1.2mm,3mm

分析元素

Mg~U (Heパージ使用時 Na~U)

マッピング面積

250×200mm

特徴

♦ 大きい試料も非破壊で測定

♦ 微小からバルクまでの分析領域

♦ 広範囲の高速マッピング

分析事例

メモリー基板の面分析

試料像

 

マッピング重ね合わせ

赤(Cu), 緑(Ag), 青(Pb)

メモリー基板の面分析

大きな試料にも対応可能です(最大250×200mm)

金属製品の素材確認

図1 試料像

(中央の1.2mm角の範囲にX線を照射して測定)

ステンレスと思われる金属製品があり、これがSUS304であるか、SUS316であるか確認したいという相談が持ち込まれた。

分析結果

モリブデン(Mo)が検出されていることから、SUS316に近い鋼種と推察された。

 

お問い合わせ

川崎技術支援部
TEL:044-819-2105 FAX:044-819-2108

お問い合わせフォーム