光干渉式膜厚測定装置

用途・特徴について

半導体プロセスにおける各種膜を光学式により非接触で膜厚測定します。

ご利用方法

試験計測(依頼試験) , 機器使用 で利用できます。

 *試験計測(依頼試験)の詳細についてはこちらをご確認ください。

 *機器使用の詳細については[海老名本部][溝の口支所]をそれぞれご確認ください。

 *技術開発受託(受託研究) の詳細についてはこちらをご確認ください。

手数料または使用料NO.

この機器を使用した料金表の項目は以下の通りです。

■ 料金表 (試験計測料金)

項目番号項目単位手数料(円)
E1130光干渉式膜厚測定 1試料1測定点につき2,970
E1140光干渉式膜厚測定 1測定点増1試料につき1測定点増すごとに1,430

■ 料金表 (機器使用料金)

項目番号設備機器名メーカー・型式使用料(円)
E6950光干渉式膜厚測定装置大日本スクリーン VM-8000J2,970

メーカー

大日本スクリーン製造株式会社

型番

ラムダエース VM-8000J

仕様

測定対象膜SiO2(酸化シリコン)、Si3N4(窒化シリコン)、レジスト、ポリSi(ポリシリコン)、ポリイミド/測定範囲10nm~20μm(膜種による)/測定再現精度0.1nm:膜厚10nm~3μm,0.03%:膜厚3μm~20μm/測定時間:約1秒

導入年度

1996

 

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  • 担当:電子技術部 電子デバイスグループ
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