酸化拡散装置

【用途・特徴】
酸素や水蒸気を利用し、Si(シリコン)ウェハへ熱酸化により、酸化膜の形成を行います。また、Siウエハの不純物拡散を行います。

メーカー名

KHエレクトロニクス株式会社

仕様

抵抗加熱式横型/温度範囲400~1200℃/ウエハサイズ4インチ以下(推奨は3インチまで)/ドライ酸化、ウエット酸化

ご利用方法

試験計測(依頼試験)機器使用で利用できます

料金について

■ 試験計測(依頼試験)料金

料金についてはお問い合わせください。

酸化拡散試験

料金NO.項目単位料金担当部名
E1120酸化拡散試験1時間当たり23,650円電子技術部

■ 機器使用料金 (特に表記のない場合は、1時間当たりの料金となります。)

料金NO.設備機器名メーカー・型式使用料担当部名
E6740酸化拡散装置KHエレクトロニクス 特別仕様19,360円電子技術部

導入年度

平成元年度
  • この装置に関連するお問い合わせ
  • 担当:電子技術部 電子デバイスグループ