酸化拡散装置

用途・特徴について

酸素や水蒸気を利用し、Si(シリコン)ウェハへ熱酸化により、酸化膜の形成を行います。また、Siウエハの不純物拡散を行います。

ご利用方法

試験計測(依頼試験) , 機器使用 で利用できます。

 *試験計測(依頼試験)の詳細についてはこちらをご確認ください。

 *機器使用の詳細については[海老名本部][溝の口支所]をそれぞれご確認ください。

 *技術開発受託(受託研究) の詳細についてはこちらをご確認ください。

手数料または使用料NO.

この機器を使用した料金表の項目は以下の通りです。

■ 料金表 (試験計測料金)

項目番号項目単位手数料(円)
E1120酸化拡散試験1時間当たり24,310

■ 料金表 (機器使用料金)

項目番号設備機器名メーカー・型式使用料(円)
E6740酸化拡散装置KHエレクトロニクス 特別仕様18,920

メーカー

KHエレクトロニクス株式会社

仕様

抵抗加熱式横型/温度範囲400~1200℃/ウエハサイズ4インチ以下(推奨は3インチまで)/ドライ酸化、ウエット酸化

導入年度

1989

 

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