電界放出型透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS)

この装置について


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♠数千倍から数百万倍まで、広範囲の倍率で試料の微細構造観察ができます。
♠EDS分析により数nmの分解能で元素分析が行うことができます。
♠電子線回折や暗視野像からは試料の結晶情報が得られます。

用途・特徴について

特長
♣2台のEDSを搭載することで、X線分析の収集効率と精度が格段に向上し、これまでより短時間に詳細な分析が可能です。
♣従来のEDS分析では困難であった元素の組み合わせでも最新のピーク分離機能により面分析が可能になりました。
♣HAADF-STEM像(高角度散乱暗視野像)での像強度は原子番号の二乗に比例するため、軽い原子と比較して重い原子が選択的に観察できます。

立会い観察分析も可能です。
♦撮影箇所や分析箇所を指定でき、欲しい情報が的確に得られます。
♦データを受取るだけでは得られない多くの情報を得る事ができます。
♦画像データはその場でお渡しできます。

ご利用方法

試験計測(依頼試験) , 機器使用 , 技術開発受託(受託研究) で利用できます。

 *試験計測(依頼試験)の詳細についてはこちらをご確認ください。

 *機器使用の詳細については[海老名本部][溝の口支所]をそれぞれご確認ください。

 *技術開発受託(受託研究) の詳細についてはこちらをご確認ください。

手数料または使用料NO.

この機器を使用した料金表の項目は以下の通りです。

■ 料金表 (試験計測料金)

項目番号項目単位手数料(円)
K1440電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)10万倍以下倍率 10万倍以下 1視野につき17,600
K1445電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)10万倍以下 1視野増倍率 10万倍以下 1視野増すごとに8,800
K1441電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)10万倍を超えて50万倍以下倍率 10万倍を超えて50万倍以下 1視野につき23,100
K1446電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)10万倍を超えて50万倍以下 1視野増倍率 10万倍を超えて50万倍以下 1視野増すごとに13,200
K1450電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)50万倍を超えて200万倍以下倍率  50万倍を超えて200万倍以下 1視野につき31,900
K1455電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)50万倍を超えて200万倍以下 1視野増倍率  50万倍を超えて200万倍以下 1視野増すごとに17,600
K1451電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)200万倍を超えるもの倍率 200万倍を超えるもの 1視野につき46,200
K1456電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)200万倍を超えるもの 1視野増倍率 200万倍を超えるもの 1視野増すごとに27,500
K1460電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)試料傾斜調整試料傾斜調整 1条件ごとに12,100
K1470電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)制限視野回折制限視野回折 1視野につき15,400
K1471電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)微小領域回折微小領域回折 1視野につき27,500
K1472電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)明視野像明視野像 1視野につき17,600
K1473電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)暗視野像暗視野像 1視野につき31,900
K1510電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 点分析点分析 1試料1測定点につき26,400
K1515電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 点分析追加点分析 同一試料において1測定点追加につき5,500
K1540電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 定量分析定量分析 1試料1測定点につき22,000
K1545電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 定量分析追加定量分析 同一試料において1測定点追加につき6,600
K1520電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 線分析線分析 1測定5元素までごとに66,000
K1530電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 面分析面分析 1視野5元素ごとに、 または2時間につき102,300
K1550TEM データ処理各種データ処理 1条件につき11,000
K1410TEM試料調製 分散法 ふりかけ法ふりかけ法 1試料につき5,500
K1411TEM試料調製 分散法 懸濁法懸濁法 1試料につき11,000
K1425TEM試料調製 低エネルギーイオンミリング (ジェントルミル)1試料1条件につき13,200
K1433TEM試料調製 樹脂包埋1試料につき13,200
K1432TEM試料調製 電子染色1試料につき26,400
K1620TEM試料調製 FIB-リフトアウト法1試料につき80,300
K1621TEM試料調製 FIB-リフトアウト法 条件追加1条件追加につき28,600
K1625TEM試料調製 FIB-マイクロプロービング法 低加速ガリウムイオン低加速ガリウムイオン仕上げ 1試料につき110,000
K1663TEM試料調製 FIB-マイクロプロービング法 低加速ガリウムイオン 試料作製のみ低加速ガリウムイオン仕上げ 1試料につき(試料作製のみ)127,600
K1626TEM試料調製 FIB-マイクロプロービング法 低加速ガリウムイオン条件追加低加速ガリウムイオン仕上げ 1条件追加につき28,600
K1627TEM試料調製 FIB-マイクロプロービング法 アルゴンイオンミリングアルゴンイオンミリング仕上げ  1試料につき124,300
K1666TEM試料調製 FIB-マイクロプロービング法 アルゴンイオンミリング 試料作製のみアルゴンイオンミリング仕上げ  1試料につき(試料作製のみ)141,900
K1628TEM試料調製 FIB-マイクロプロービング法 アルゴンイオンミリング条件追加アルゴンイオンミリング仕上げ  1条件追加につき28,600

■ 料金表 (機器使用料金)

項目番号設備機器名メーカー・型式使用料(円)
K2411FE-TEM/EDS EM-002BF (1時間あたり)トプコン EM-002BF56,100

メーカー

株式会社トプコンテクノハウス

型番

EM002BF

仕様

FE-TEMトプコンテクノハウス EM002BF ・格子分解能 : 0.10nm ・観察モード : 明視野像、暗視野像、高分解能像
EDS(エネルギー分散型X線分析装置)サーモフィッシャーサイエンティフィック NORAN System SIX(検出器2台装備) ・最小分析領域 : 0.3nm
STEMトプコンテクノハウス ASD-2B2 ・観察モード : 明視野像、暗視野像、HAADF

導入年度

2007

 

  • この装置に関連するお問い合わせ
  • 担当:川崎技術支援部 微細構造解析グループ
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