走査型X線光電子分光分析装置(µ-XPS・µ-ESCA)

この装置について


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試料表面の極薄い層(数nm)の元素分析(水素、ヘリウム以外)、半定量分析(検出限界~0.1at%程度)および化学結合状態分析ができます。
金属や半導体、酸化物、セラミックス、有機物などの絶縁物試料等、あらゆる固体が対象です。

用途・特徴について

ビーム径9µm~200µmでの微小部分析。 
試料最表面の元素分析、化学結合状態分析。 

-応用例-
薄膜、多層膜分析。
物質表面の変色、汚染、付着分析。
電子材料の不具合分析。
目視、顕微鏡では確認できない汚染物分析。
表面処理、ぬれ性など表面改質分析。
腐食、接合などのトラブル解析。

用途
♣ 目視、顕微鏡では確認できない表面の汚染、吸着、付着物分析 
♣ 表面改質評価 
♣ 金属薄膜の組成、化学結合状態の評価 
♣ 物質表面のしみ、変色分析 
♣ 電子材料の故障解析 

ご利用方法

試験計測(依頼試験) , 技術開発受託(受託研究) で利用できます。

 *試験計測(依頼試験)の詳細についてはこちらをご確認ください。

 *技術開発受託(受託研究) の詳細についてはこちらをご確認ください。

手数料または使用料NO.

この機器を使用した料金表の項目は以下の通りです。

■ 料金表 (試験計測料金)

項目番号項目単位手数料(円)
K5002X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドスキャンのみ)1試料1ヶ所につき(ワイドスキャンのみ)26,400
K5005X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドスキャンのみ 追加試料)追加1試料1ヶ所につき(ワイドスキャンのみ)20,900
K5007X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドスキャンのみ 条件増)1条件増すごとに(ワイドスキャンのみ)5,500
K5011X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドおよびナロースキャン)1試料1条件につき(ワイドおよびナロースキャン)47,300
K5012X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドおよびナロースキャン 条件増)1条件増すごとに(面分析、状態分析加算等)11,000
K5010X線光電子分光分析(XPS) 深さ方向分析1試料1条件につき(主成分のみ、深さ0.2μmまで)84,700
K5015X線光電子分光分析(XPS) 深さ方向分析 条件増1条件増すごとに11,000

メーカー

アルバック・ファイ株式会社

型番

Quantera SXM

仕様

•  X線源 : Al KaモノクロX線
・ X線ビーム径 : 分析可能最小ビーム径:9µm
・ 試料サイズ : W70×D70×H18mm 以下
・ その他 : Arイオン銃、中和銃

導入年度

2010

 

  • この装置に関連するお問い合わせ
  • 担当:川崎技術支援部 
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