光干渉式膜厚測定装置

用途・特徴について

半導体プロセスにおける各種膜を光学式により非接触で膜厚測定します。

ご利用方法

試験計測（依頼試験） , 機器使用 で利用できます。

　*試験計測（依頼試験）の詳細についてはこちらをご確認ください。

　*機器使用の詳細についてはこちらをご確認ください。

　*技術開発受託（受託研究） の詳細についてはこちらをご確認ください。

手数料または使用料NO.

この機器を使用した料金表の項目は以下の通りです。

■ 料金表 (試験計測料金)

項目番号	項目	単位	手数料（円）
E1130	光干渉式膜厚測定	１試料１測定点につき	3,190
E1140	光干渉式膜厚測定　１測定点増	１試料につき１測定点増すごとに	1,540

■ 料金表 (機器使用料金)

項目番号	設備機器名	メーカー・型式	使用料（円）
E6950	光干渉式膜厚測定装置	大日本スクリーン　VM-8000J	3,080

メーカー

大日本スクリーン製造株式会社

型番

ラムダエース　VM-8000J

仕様

測定対象膜SiO2（酸化シリコン）、Si3N4（窒化シリコン）、レジスト、ポリSi（ポリシリコン）、ポリイミド／測定範囲10nm～20μm（膜種による）／測定再現精度0.1nm：膜厚10nm～3μm，0.03%：膜厚3μm～20μm／測定時間：約１秒

導入年度

平成8年度