両面マスクアライナ(手動式マスクアライナ/紫外線露光装置)

【用途・特徴】
半導体製造装置(半導体プロセス装置)/本装置は、フォトリソグラフィー技術を用いてサブミクロン状の微細パターンをサブミクロン・レベルの高い重ね合わせ精度で加工するための手動式両面紫外線露光装置です。フォトマスク(クロムマスク)のパターン転写。/ご利用の一例:MEMS(圧力センサー他)、マイクロ成型金型原盤、 LED照明用バックライト用金型原盤、マイクロ流体チップ作製/厚膜レジストによる高アスペクト比構造体/ナノインプリント加工、高精度張り合わせ(それぞれ専用ジグをご用意いただく必要があります)/薄膜パターニング用のレジスト加工

用途・特徴について

半導体製造装置(半導体プロセス装置)/本装置は、フォトリソグラフィー技術を用いてサブミクロン状の微細パターンをサブミクロン・レベルの高い重ね合わせ精度で加工するための手動式両面紫外線露光装置です。フォトマスク(クロムマスク)のパターン転写。/ご利用の一例:MEMS(圧力センサー他)、マイクロ成型金型原盤、 LED照明用バックライト用金型原盤、マイクロ流体チップ作製/厚膜レジストによる高アスペクト比構造体/ナノインプリント加工、高精度張り合わせ(それぞれ専用ジグをご用意いただく必要があります)/薄膜パターニング用のレジスト加工

ご利用方法

試験計測(依頼試験) で利用できます。

 *試験計測(依頼試験)の詳細についてはこちらをご確認ください。

 *技術開発受託(受託研究) の詳細についてはこちらをご確認ください。

料金について

この機器を使用した依頼試験の料金は以下の通りです。

高精度フォトリソグラフィ
高精度フォトリソグラフィ 1枚増 

メーカー

ズース・マイクロテック株式会社

型番

MA6-BSA

導入年度

平成20年度
  • この装置に関連するお問い合わせ
  • 担当:電子技術部 電子材料グループ
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