プラズマ処理装置

用途・特徴について

真空槽内に設けた並行平板型の電極に高周波を印加し、原料ガスをプラズマで分解する装置です。減圧下で、水素プラズマ処理が可能です。

ご利用方法

試験計測（依頼試験） で利用できます。

　*試験計測（依頼試験）の詳細についてはこちらをご確認ください。

　*技術開発受託（受託研究） の詳細についてはこちらをご確認ください。

メーカー

日本真空技術株式会社

仕様

13.56MHz、500W RF電源／基板加熱温度：350℃／基板：4インチ以下／導入可能ガス：水素、アルゴン

導入年度

昭和61年度