プラズマ処理装置
用途・特徴について
真空槽内に設けた並行平板型の電極に高周波を印加し、原料ガスをプラズマで分解する装置です。減圧下で、水素プラズマ処理が可能です。ご利用方法
試験計測(依頼試験) で利用できます。*試験計測(依頼試験)の詳細についてはこちらをご確認ください。
*技術開発受託(受託研究) の詳細についてはこちらをご確認ください。
メーカー
日本真空技術株式会社仕様
13.56MHz、500W RF電源/基板加熱温度:350℃/基板:4インチ以下/導入可能ガス:水素、アルゴン
導入年度
昭和61年度- この装置に関連するお問い合わせ
- 担当:化学技術部 新エネルギーグループ
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