プラズマ処理装置


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【用途・特徴】
真空槽内に設けた並行平板型の電極に高周波を印加し、原料ガスをプラズマで分解する装置です。減圧下で、水素プラズマ処理が可能です。

メーカー名

日本真空技術株式会社

型番

特殊仕様

仕様

13.56MHz、500W RF電源／基板加熱温度：350℃／基板：4インチ以下／導入可能ガス：水素、アルゴン

ご利用方法

試験計測（依頼試験）で利用できます

料金について

■ 試験計測（依頼試験）料金

料金についてはお問い合わせください。

導入年度

昭和61年度
  • この装置に関連するお問い合わせ
  • 担当：化学技術部　新エネルギーグループ