電界放出型透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS)


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♠数千倍から数百万倍まで、広範囲の倍率で試料の微細構造観察ができます。
♠EDS分析により数nmの分解能で元素分析が行うことができます。
♠電子線回折や暗視野像からは試料の結晶情報が得られます。

特長
♣2台のEDSを搭載することで、X線分析の収集効率と精度が格段に向上し、これまでより短時間に詳細な分析が可能です。
♣従来のEDS分析では困難であった元素の組み合わせでも最新のピーク分離機能により面分析が可能になりました。
♣HAADF-STEM像(高角度散乱暗視野像)での像強度は原子番号の二乗に比例するため、軽い原子と比較して重い原子が選択的に観察できます。

立会い観察分析も可能です。
♦撮影箇所や分析箇所を指定でき、欲しい情報が的確に得られます。
♦データを受取るだけでは得られない多くの情報を得る事ができます。
♦画像データはその場でお渡しできます。

用途・特徴について

特長
♣2台のEDSを搭載することで、X線分析の収集効率と精度が格段に向上し、これまでより短時間に詳細な分析が可能です。
♣従来のEDS分析では困難であった元素の組み合わせでも最新のピーク分離機能により面分析が可能になりました。
♣HAADF-STEM像(高角度散乱暗視野像)での像強度は原子番号の二乗に比例するため、軽い原子と比較して重い原子が選択的に観察できます。

立会い観察分析も可能です。
♦撮影箇所や分析箇所を指定でき、欲しい情報が的確に得られます。
♦データを受取るだけでは得られない多くの情報を得る事ができます。
♦画像データはその場でお渡しできます。

ご利用方法

試験計測(依頼試験) , 機器使用 , 技術開発受託(受託研究) で利用できます。

 *試験計測(依頼試験)の詳細についてはこちらをご確認ください。

 *機器使用の詳細についてはこちらをご確認ください。

 *技術開発受託(受託研究) の詳細についてはこちらをご確認ください。

料金について

この機器を使用した依頼試験の料金は以下の通りです。

電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)10万倍以下
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)10万倍以下 1視野増
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)10万倍を超えて50万倍以下
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)10万倍を超えて50万倍以下 1視野増
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)50万倍を超えて200万倍以下
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)50万倍を超えて200万倍以下 1視野増
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)200万倍を超えるもの
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)200万倍を超えるもの 1視野増
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)試料傾斜調整
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)制限視野回折
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)微小領域回折
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)明視野像
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)暗視野像
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)10万倍以下
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)10万倍以下 1視野増
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)10万倍を超えて50万倍以下
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)10万倍を超えて50万倍以下 1視野増
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)50万倍を超えて200万倍以下
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)50万倍を超えて200万倍以下 1視野増
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)200万倍を超えるもの
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)200万倍を超えるもの 1視野増
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)試料傾斜調整
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)制限視野回折
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)微小領域回折
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)明視野像
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)暗視野像
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 点分析
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 点分析追加
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 定量分析
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 定量分析追加
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 線分析
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 面分析
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)10万倍以下
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)10万倍以下 1視野増
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)10万倍を超えて50万倍以下
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)10万倍を超えて50万倍以下 1視野増
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)50万倍を超えて200万倍以下
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)50万倍を超えて200万倍以下 1視野増
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)200万倍を超えるもの
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)200万倍を超えるもの 1視野増
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)試料傾斜調整
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)制限視野回折
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)微小領域回折
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)明視野像
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)暗視野像
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 点分析
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 点分析追加
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 定量分析
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 定量分析追加
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 線分析
電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 面分析
TEM データ処理

メーカー

株式会社トプコンテクノハウス

型番

EM002BF

仕様

FE-TEMトプコンテクノハウス EM002BF ・格子分解能 : 0.10nm ・観察モード : 明視野像、暗視野像、高分解能像
EDS(エネルギー分散型X線分析装置)サーモフィッシャーサイエンティフィック NORAN System SIX(検出器2台装備) ・最小分析領域 : 0.3nm
STEMトプコンテクノハウス ASD-2B2 ・観察モード : 明視野像、暗視野像、HAADF

導入年度

平成19年度
  • この装置に関連するお問い合わせ
  • 担当:川崎技術支援部 微細構造解析グループ
  • その他の技術相談はこちらから
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