走査型X線光電子分光分析装置(µ-XPS・µ-ESCA)
この装置について
試料表面の極薄い層(数nm)の元素分析(水素、ヘリウム以外)、半定量分析(検出限界~0.1at%程度)および化学結合状態分析ができます。
金属や半導体、酸化物、セラミックス、有機物などの絶縁物試料等、あらゆる固体が対象です。
金属や半導体、酸化物、セラミックス、有機物などの絶縁物試料等、あらゆる固体が対象です。
用途・特徴について
ビーム径9µm~200µmでの微小部分析。試料最表面の元素分析、化学結合状態分析。
-応用例-
薄膜、多層膜分析。
物質表面の変色、汚染、付着分析。
電子材料の不具合分析。
目視、顕微鏡では確認できない汚染物分析。
表面処理、ぬれ性など表面改質分析。
腐食、接合などのトラブル解析。
用途
♣ 目視、顕微鏡では確認できない表面の汚染、吸着、付着物分析
♣ 表面改質評価
♣ 金属薄膜の組成、化学結合状態の評価
♣ 物質表面のしみ、変色分析
♣ 電子材料の故障解析
ご利用方法
試験計測(依頼試験) , 技術開発受託(受託研究) で利用できます。*試験計測(依頼試験)の詳細についてはこちらをご確認ください。
*技術開発受託(受託研究) の詳細についてはこちらをご確認ください。
手数料または使用料NO.
この機器を使用した料金表の項目は以下の通りです。■ 料金表 (試験計測料金)
項目番号 | 項目 | 単位 | 手数料(円) |
---|---|---|---|
K5002 | X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドスキャンのみ) | 1試料1ヶ所につき(ワイドスキャンのみ) | 26,950 |
K5005 | X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドスキャンのみ 追加試料) | 追加1試料1ヶ所につき(ワイドスキャンのみ) | 21,120 |
K5007 | X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドスキャンのみ 条件増) | 1条件増すごとに(ワイドスキャンのみ) | 5,610 |
K5011 | X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドおよびナロースキャン) | 1試料1条件につき(ワイドおよびナロースキャン) | 48,180 |
K5012 | X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドおよびナロースキャン 条件増) | 1条件増すごとに(面分析、状態分析加算等) | 11,110 |
K5010 | X線光電子分光分析(XPS) 深さ方向分析 | 1試料1条件につき(主成分のみ、深さ0.2μmまで) | 85,200 |
K5015 | X線光電子分光分析(XPS) 深さ方向分析 条件増 | 1条件増すごとに | 11,110 |
メーカー
アルバック・ファイ株式会社型番
Quantera SXM仕様
• X線源 : Al KaモノクロX線
・ X線ビーム径 : 分析可能最小ビーム径:9µm
・ 試料サイズ : W70×D70×H18mm 以下
・ その他 : Arイオン銃、中和銃
導入年度
平成22年度- この装置に関連するお問い合わせ
- 担当:川崎技術支援部
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