走査型X線光電子分光分析装置(µ-XPS・µ-ESCA)


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試料表面の極薄い層(数nm)の元素分析(水素、ヘリウム以外)、半定量分析(検出限界~0.1at%程度)および化学結合状態分析ができます。
金属や半導体、酸化物、セラミックス、有機物などの絶縁物試料等、あらゆる固体が対象です。

【用途・特徴】
ビーム径9µm~200µmでの微小部分析。 
試料最表面の元素分析、化学結合状態分析。 

-応用例-
薄膜、多層膜分析。
物質表面の変色、汚染、付着分析。
電子材料の不具合分析。
目視、顕微鏡では確認できない汚染物分析。
表面処理、ぬれ性など表面改質分析。
腐食、接合などのトラブル解析。

用途
♣ 目視、顕微鏡では確認できない表面の汚染、吸着、付着物分析 
♣ 表面改質評価 
♣ 金属薄膜の組成、化学結合状態の評価 
♣ 物質表面のしみ、変色分析 
♣ 電子材料の故障解析 

用途・特徴について

ビーム径9µm~200µmでの微小部分析。 
試料最表面の元素分析、化学結合状態分析。 

-応用例-
薄膜、多層膜分析。
物質表面の変色、汚染、付着分析。
電子材料の不具合分析。
目視、顕微鏡では確認できない汚染物分析。
表面処理、ぬれ性など表面改質分析。
腐食、接合などのトラブル解析。

用途
♣ 目視、顕微鏡では確認できない表面の汚染、吸着、付着物分析 
♣ 表面改質評価 
♣ 金属薄膜の組成、化学結合状態の評価 
♣ 物質表面のしみ、変色分析 
♣ 電子材料の故障解析 

ご利用方法

試験計測(依頼試験) , 技術開発受託(受託研究) で利用できます。

 *試験計測(依頼試験)の詳細についてはこちらをご確認ください。

 *技術開発受託(受託研究) の詳細についてはこちらをご確認ください。

料金について

この機器を使用した依頼試験の料金は以下の通りです。

X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドスキャンのみ)
X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドスキャンのみ 追加試料)
X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドスキャンのみ 条件増)
X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドスキャンのみ)
X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドスキャンのみ 追加試料)
X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドスキャンのみ 条件増)
X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドおよびナロースキャン)
X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドおよびナロースキャン 条件増)
X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドスキャンのみ)
X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドスキャンのみ 追加試料)
X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドスキャンのみ 条件増)
X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドおよびナロースキャン)
X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドおよびナロースキャン 条件増)
X線光電子分光分析(XPS) 深さ方向分析
X線光電子分光分析(XPS) 深さ方向分析 条件増

メーカー

アルバック・ファイ株式会社

型番

Quantera SXM

仕様

•  X線源 : Al KaモノクロX線
・ X線ビーム径 : 分析可能最小ビーム径:9µm
・ 試料サイズ : W70×D70×H18mm 以下
・ その他 : Arイオン銃、中和銃

導入年度

平成22年度
  • この装置に関連するお問い合わせ
  • 担当:川崎技術支援部 
  • その他の技術相談はこちらから
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