走査型X線光電子分光分析装置（µ-XPS・µ-ESCA）

この装置について

用途・特徴について

ビーム径9µm～200µmでの微小部分析。　
試料最表面の元素分析、化学結合状態分析。　

－応用例－
薄膜、多層膜分析。
物質表面の変色、汚染、付着分析。
電子材料の不具合分析。
目視、顕微鏡では確認できない汚染物分析。
表面処理、ぬれ性など表面改質分析。
腐食、接合などのトラブル解析。

用途
♣ 目視、顕微鏡では確認できない表面の汚染、吸着、付着物分析　
♣ 表面改質評価　
♣ 金属薄膜の組成、化学結合状態の評価　
♣ 物質表面のしみ、変色分析　
♣ 電子材料の故障解析　

ご利用方法

試験計測（依頼試験） , 技術開発受託（受託研究） で利用できます。

　*試験計測（依頼試験）の詳細についてはこちらをご確認ください。

　*技術開発受託（受託研究） の詳細についてはこちらをご確認ください。

手数料または使用料NO.

この機器を使用した料金表の項目は以下の通りです。

■ 料金表 (試験計測料金)

項目番号	項目	単位	手数料（円）
K5002	Ｘ線光電子分光分析（XPS）　表面分析（ワイドスキャンのみ）	１試料１ヶ所につき（ワイドスキャンのみ）	26,950
K5005	Ｘ線光電子分光分析（XPS）　表面分析（ワイドスキャンのみ　追加試料）	追加１試料１ヶ所につき（ワイドスキャンのみ）	21,120
K5007	Ｘ線光電子分光分析（XPS）　表面分析（ワイドスキャンのみ　条件増）	１条件増すごとに（ワイドスキャンのみ）	5,610
K5011	Ｘ線光電子分光分析（XPS）　表面分析（ワイドおよびナロースキャン）	１試料１条件につき（ワイドおよびナロースキャン）	48,180
K5012	Ｘ線光電子分光分析（XPS）　表面分析（ワイドおよびナロースキャン 条件増）	１条件増すごとに（面分析、状態分析加算等）	11,110
K5010	Ｘ線光電子分光分析（XPS）　深さ方向分析	１試料１条件につき（主成分のみ、深さ0.2μmまで）	85,200
K5015	Ｘ線光電子分光分析（XPS）　深さ方向分析　条件増	１条件増すごとに	11,110

メーカー

アルバック・ファイ株式会社

型番

Quantera SXM

仕様

•　 Ｘ線源　：　Al KaモノクロＸ線
・　Ｘ線ビーム径　：　分析可能最小ビーム径：9µm
・　試料サイズ　：　W70×D70×H18mm 以下
・　その他　：　Arイオン銃、中和銃

導入年度

平成22年度