微小部蛍光X線分析装置(XRF)


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蛍光X線(XRF)分析装置は、試料にX線を照射し発生する蛍光X線を測定することで元素の確認(定性)や、検出された各元素のピーク強度を理論計算(FP法)することで大まかな含有量(半定量)を得ることができる装置です。
金属,半導体,有機物及びセラミックスとあらゆる固体に対応でき、元素情報を得るための入り口的な装置として、中小企業から大企業の多種多様なニーズに対応できる装置です。

【用途・特徴】
♦ 大きい試料も非破壊で測定
♦ 微小からバルクまでの分析領域
♦ 広範囲の高速マッピング

用途・特徴について

♦ 大きい試料も非破壊で測定
♦ 微小からバルクまでの分析領域
♦ 広範囲の高速マッピング

ご利用方法

試験計測(依頼試験) , 機器使用 で利用できます。

 *試験計測(依頼試験)の詳細についてはこちらをご確認ください。

 *機器使用の詳細についてはこちらをご確認ください。

 *技術開発受託(受託研究) の詳細についてはこちらをご確認ください。

料金について

この機器を使用した依頼試験の料金は以下の通りです。

微小部蛍光X線分析(XRF)
微小部蛍光X線分析(XRF) 条件追加

メーカー

SIIナノテクノロジー株式会社

型番

SEA6000VX HSFinder

仕様

X線源空冷式小型X線管球(Wターゲット)、コリメータ方式
X線照射向き上面照射
分析領域200μm,500μm,1.2mm,3mm,
分析元素Mg~U (Heパージ使用時 Na~U)
試料室580(W)×450(D)×150(H)mm
マッピング面積250×200mm

導入年度

平成22年度
  • この装置に関連するお問い合わせ
  • 担当:川崎技術支援部 材料解析グループ
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