高活性表面修飾酸化チタン光触媒及びその製造方法

登録ID 151
出願番号 2002-277426
公開番号 2004-113864
公開年月日 2004年04月15日
出願人 神奈川県、多摩化学工業株式会社
発明者 吉岡 謙、深澤 宜行、上元 好仁、藤井 寿、奥田 徹也
発明の名称 高活性表面修飾酸化チタン光触媒及びその製造方法
国際特許分類(IPC) B01J35/02,B01D53/86,B01J23/30,B01J27/02,B01J37/02
概要 光触媒活性を有するルチル型あるいはアナターゼ型の酸化チタンについて、その光触媒活性がより高められた高活性表面修飾酸化チタン光触媒及びその製造方法を提供するものです。
備考 特許第4256652号