光干渉式膜厚測定装置
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光干渉式膜厚測定装置、非接触膜厚測定、光学式膜厚測定
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 機器名 | 光干渉式膜厚測定装置 |
| 利用の仕方 |  |
| 使用料Ｎｏ | E6950 |
| 分類 | 試験・計測機器 |
| 担当 | 電子技術部 |
| 仕様 | 測定対象膜SiO2（酸化シリコン）、Si3N4（窒化シリコン）、レジスト、ポリSi（ポリシリコン）、ポリイミド／測定範囲10nm～20μm（膜種による）／測定再現精度0.1nm：膜厚10nm～3μm，0.03%：膜厚3μm～20μm／測定時間：約１秒 |
| 用途 | 半導体プロセスにおける各種膜を光学式により非接触で膜厚測定します。 |
| 手数料Ｎｏ ／試験名 |
E1130／光干渉式膜厚測定，E1140／光干渉式膜厚測定 1増 |
| 製造社名 | 大日本スクリーン |
| 規格 | ラムダエース VM-8000J |
| 導入年度 | 平成08年度 |
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