有磁場マイクロ波CVD装置(ECR)
お客様ご自身が使用して、試作・分析を行える機器は 『利用の仕方』欄にがつけてあります。
有磁場マイクロ波CVD装置(ECR)
項目 | 内容 |
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機器名 | 有磁場マイクロ波CVD装置(ECR) |
利用の仕方 | |
使用料No | |
分類 | 生産加工機器 |
担当 | 電子技術部 |
仕様 | 出力1.5KW/冷却水12リットル/min |
用途 | 炭素系薄膜作製 |
手数料No /試験名 |
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製造社名 | 半導体エネルギー研究所製 |
規格 | 半導体エネルギー研究所製 |
導入年度 | 昭和63年度 |
- 「使用料」とは
のついた機器をご使用いただいたときの料金です。
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- 「手数料」とは当研究所職員がお客様のご依頼を受けて試験等を実施する場合の料金です。この他にオーダーメードでもお受けできます。
- 「試験名」とは当機器を利用して行う試験等の名称で、クリックすると詳細説明がご覧になれます。