電子線描画装置 （電子ビーム描画装置／EB描画装置／EB露光装置）

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電子線描画装置 （電子ビーム描画装置／EB描画装置／EB露光装置／電子ビーム露光装置）

 

項目 内容
機器名 電子線描画装置（電子ビーム描画装置／EB描画装置／EB露光装置／電子ビーム露光装置）
利用の仕方
使用料Ｎｏ
分類 生産加工機器
担当 電子技術部
仕様 ウエハー　Φ3、Φ4インチ に対応
小片サンプル 10mm角、20mm角、
　　　　　　 25mm角 に対応
クロムマスク　4、5インチ角　に対応
ただし、最大描画領域は90×62mm
最小描画線幅10nm
つなぎ精度100nm
最大加速電圧 50KV
※専用の帯電防止剤（エスペイサー）を使用することにより絶縁体基板上への直接描画も可能
用途 電子線に反応する物質（電子線レジストパターン）に、細く絞った電子線を筆のように扱って任意のパターンを描くことを電子線リソグラフィー技術といいます。電子線リソグラフィー技術を用いて、本装置はミクロンサイズからナノサイズの電子線レジストパターンを形成できます。更に，専用の帯電防止剤（エスペイサー）を塗布することで、絶縁基板上に電子線レジストパターンを形成できます。
ミクロンサイズでは、フォトリソグラフィ用マスクの作製ができます。また、ナノサイズでは、1mm角と広い描画フィールドにおいて200nm周期のレジストパターンを高速に描画できます。応用例として、ナノパターンを用いたSAWデバイス、無反射構造体などが挙げられます。
手数料Ｎｏ
／試験名
製造社名 (株)エリオニクス
規格 ELS-S50
導入年度 平成26年度（地域オープンイノベーション促進事業導入機器）
  • 「使用料」とはご利用OKのついた機器をご使用いただいたときの料金です。ご利用OKのある機器でも、使用条件によって料金が変わる場合は空欄となっています。そのような機器の使用料は、お問い合わせ下さい。
  • 「手数料」とは当研究所職員がお客様のご依頼を受けて試験等を実施する場合の料金です。この他にオーダーメードでもお受けできます。
  • 「試験名」とは当機器を利用して行う試験等の名称で、クリックすると詳細説明がご覧になれます。