磁性薄膜用三元スパッタ装置
お客様ご自身が使用して、試作・分析を行える機器は 『利用の仕方』欄にがつけてあります。
磁性薄膜用三元スパッタ装置、磁性薄膜作製、rfマグネトロンスパッタ装置
項目 | 内容 |
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機器名 | 磁性薄膜用三元スパッタ装置 |
利用の仕方 | |
使用料No | |
分類 | 生産加工機器 |
担当 | 電子技術部 |
仕様 | 平行平板型マグネトロンスパッタリング/rf電源:600W、DC電源500W/3インチマグネトロンカソード:3基(強磁性体用2基、rf用3基、DC用1基)/基板加熱:最高300℃/基板回転機構付き(5rpm)/膜厚分布:±10%以内(中心よりΦ200mm内)/Arガス流量制御器付き |
用途 | rfマグネトロンスパッタ法による単層または多層の磁性膜作製/各種薄膜作製 |
手数料No /試験名 |
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製造社名 | アネルバ株式会社 |
規格 | L-332S-FH |
導入年度 | 平成08年度 |
- 「使用料」とは
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