磁性薄膜用三元スパッタ装置

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磁性薄膜用三元スパッタ装置、磁性薄膜作製、rfマグネトロンスパッタ装置

 

項目 内容
機器名 磁性薄膜用三元スパッタ装置
利用の仕方
使用料Ｎｏ
分類 生産加工機器
担当 電子技術部
仕様 平行平板型マグネトロンスパッタリング／rf電源：600W、DC電源500W／3インチマグネトロンカソード：3基（強磁性体用２基、rf用3基、DC用1基）／基板加熱：最高300℃／基板回転機構付き(5rpm)／膜厚分布：±10%以内（中心よりΦ200mm内）／Arガス流量制御器付き
用途 rfマグネトロンスパッタ法による単層または多層の磁性膜作製／各種薄膜作製
手数料Ｎｏ
／試験名
製造社名 アネルバ株式会社
規格 L-332S-FH
導入年度 平成08年度
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  • 「手数料」とは当研究所職員がお客様のご依頼を受けて試験等を実施する場合の料金です。この他にオーダーメードでもお受けできます。
  • 「試験名」とは当機器を利用して行う試験等の名称で、クリックすると詳細説明がご覧になれます。