磁性薄膜用三元スパッタ装置

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磁性薄膜用三元スパッタ装置、磁性薄膜作製、rfマグネトロンスパッタ装置

 

項目 内容
機器名 磁性薄膜用三元スパッタ装置
利用の仕方
使用料No
分類 生産加工機器
担当 電子技術部
仕様 平行平板型マグネトロンスパッタリング/rf電源:600W、DC電源500W/3インチマグネトロンカソード:3基(強磁性体用2基、rf用3基、DC用1基)/基板加熱:最高300℃/基板回転機構付き(5rpm)/膜厚分布:±10%以内(中心よりΦ200mm内)/Arガス流量制御器付き
用途 rfマグネトロンスパッタ法による単層または多層の磁性膜作製/各種薄膜作製
手数料No
/試験名
製造社名 アネルバ株式会社
規格 L-332S-FH
導入年度 平成08年度

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