電子線描画装置

この装置について
 本装置は、電子線に感光する樹脂薄膜にナノメートルからマイクロメートルのパターンを描画する装置です。主に、基板に直接描画することによる少量多品種の試作品の開発や半導体チップの原盤となるマスクの作製に用いられます。
用途・特徴について
 航空機や自動車に搭載される加速度センサやジャイロセンサ等の小型化、軽量化に活用できます。 
 カメラレンズなどのハレーション防止や太陽電池の発電効率の向上等で要求される100nm以下のパターンを持つ光学素子等の開発に活用できます。
 当研究所で蓄積してきた微細加工技術に加え、本装置を活用することにより、研究開発型企業の航空宇宙産業をはじめとする新たな技術開発への参入を支援します。
 ( ナノメートル(nm)は1/1,000,000 mm。マイクロメートル(µm)は1/1,000 mm。)
名称・型番について
電子線描画装置:(株)エリオニクス ELS-S50
利用するには

 受託研究等でご利用いただけます。詳細については担当者までご相談ください。

【問い合わせ先】電子技術部 電子材料チーム