高温小型真空雰囲気炉

お客様ご自身が使用して、試作・分析を行える機器は 『利用の仕方』欄にご利用OKがつけてあります。

高温小型真空雰囲気炉、小型熱処理炉、真空熱処理炉

 

項目 内容
機器名 高温小型真空雰囲気炉
利用の仕方
使用料No E6760
分類 試料調製用機器
担当 化学技術部/電子技術部
仕様 使用可能温度:~1800℃/
雰囲気: 真空中/Ar雰囲気中
試料寸法:φ35㎜以下、
高さ35mm以下
用途 シリコンや炭化ケイ素(SiC)の半導体用の専用熱処理炉です。
真空、不活性ガス(Arガス)雰囲気で熱処理可能です。
手数料No
/試験名
製造社名 (株)ナガノ
規格 (株)ナガノNEWTONIAMPASCAL40
導入年度 平成04年度

  • 「使用料」とはご利用OKのついた機器をご使用いただいたときの料金です。ご利用OKのある機器でも、使用条件によって料金が変わる場合は空欄となっています。そのような機器の使用料は、お問い合わせ下さい。
  • 「手数料」とは当研究所職員がお客様のご依頼を受けて試験等を実施する場合の料金です。この他にオーダーメードでもお受けできます。
  • 「試験名」とは当機器を利用して行う試験等の名称で、クリックすると詳細説明がご覧になれます。