溝の口支所:試験計測等料金表

〔利用上の注意〕

1 料金は全て消費税を含んでいます。
2 この料金表に掲げる以外に実施可能な項目及び使用可能な設備機器もあります。
  詳細は担当各部へお問い合わせください。
3 機器の更新等により項目及び設備機器名並びに料金の額を変更する場合が
  あります。
4 担当部名欄のE及びKの表示は、同一試験項目の各拠点の該当する料金番号を
  示しています。  E 海老名本部、K 溝の口支所

料金表を選択してください

1.試験計測料金(消費税等10%を含みます)

(1)電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM/EDS)
単位:円
NO.料金担当部名
K1010電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM) 5万倍以下観察倍率5万倍以下 1条件につき19,800川崎技術支援部
K1015電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM)   5万倍以下 条件追加観察倍率5万倍以下 1条件追加につき4,400川崎技術支援部
K1020電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM)   5万倍を超えて10万倍以下観察倍率5万倍を超えて10万倍以下 1条件につき28,600川崎技術支援部
K1025電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM)   5万倍を超えて10万倍以下 条件追加観察倍率5万倍を超えて10万倍以下 1条件追加につき8,800川崎技術支援部
K1030電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM)   10万倍を超えるもの観察倍率10万倍を超えるもの 1条件につき50,600川崎技術支援部
K1035電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM)   10万倍を超えるもの 条件追加観察倍率10万倍を超えるもの 1条件追加につき14,300川崎技術支援部
K1040FE-SEM エネルギー分散型X線分析装置(EDS)1条件につき14,300川崎技術支援部
K1041FE-SEM エネルギー分散型X線分析装置(EDS) 条件追加1条件追加につき4,400川崎技術支援部
K1042FE-SEM エネルギー分散型X線分析装置(EDS) 面分析面分析1条件につき15,400川崎技術支援部
K1050電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM) SEM観察 10~15視野1試料の観察視野が10~15視野につき(観察倍率関係なし。ただし、設定可能な試料に限る)110,000川崎技術支援部
K1052電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM) SEM観察 16~30視野1試料の観察視野が16~30視野につき(観察倍率関係なし。ただし、設定可能な試料に限る)165,000川崎技術支援部
K1055電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM) SEM観察 条件追加1条件追加につき11,000川崎技術支援部
(2)高分解能分析走査電子顕微鏡(FE-SEM / EDS)
単位:円
NO.料金担当部名
K1310高分解能分析走査電子顕微鏡 (FE-SEM/EDS) SEM観察 5万倍以下観察倍率5万倍以下 1試料1視野観察につき19,800川崎技術支援部
E0011
K1315高分解能分析走査電子顕微鏡 (FE-SEM/EDS) SEM観察 5万倍以下1視野追加観察倍率5万倍以下 同一試料において1視野追加観察につき4,400川崎技術支援部
E0012
K1320高分解能分析走査電子顕微鏡 (FE-SEM/EDS) SEM観察 5万倍を超えて10万倍以下観察倍率5万倍を超えて10万倍以下  1試料1視野観察につき28,600川崎技術支援部
E0013
K1325高分解能分析走査電子顕微鏡 (FE-SEM/EDS) SEM観察 5万倍を超えて10万倍以下 1視野追加観察倍率5万倍を超えて10万倍以下 同一試料において1視野追加観察につき8,800川崎技術支援部
E0014
K1330高分解能分析走査電子顕微鏡 (FE-SEM/EDS) SEM観察 10万倍を超えるもの観察倍率10万倍を超えるもの 1試料1視野観察につき50,600川崎技術支援部
E0015
K1335高分解能分析走査電子顕微鏡 (FE-SEM/EDS) SEM観察 10万倍を超えるもの 1視野追加観察倍率10万倍を超えるもの 同一試料において1視野追加観察につき14,300川崎技術支援部
E0016
K1392高分解能分析走査電子顕微鏡 (FE-SEM/EDS) SEM観察 10~15視野1試料の観察視野が10~15視野につき(観察倍率関係なし。ただし、設定可能な試料に限る)110,000川崎技術支援部
E0017
K1395高分解能分析走査電子顕微鏡 (FE-SEM/EDS) SEM観察 16~30視野1試料の観察視野が16~30視野につき(観察倍率関係なし。ただし、設定可能な試料に限る)165,000川崎技術支援部
E0018
K1342高分解能分析走査電子顕微鏡 (FE-SEM/EDS) SEM観察 低真空モード低真空モードの使用11,000川崎技術支援部
K1343高分解能分析走査電子顕微鏡 (FE-SEM/EDS) SEM観察 STEM透過像観察機能(STEM)の使用11,000川崎技術支援部
K1340高分解能分析走査電子顕微鏡 (FE-SEM/EDS) SEM観察 1条件追加1条件追加につき11,000川崎技術支援部
K1345高分解能分析走査電子顕微鏡 (FE-SEM/EDS) SEM観察 ArクリーナーArクリーナーの使用10分につき2,200川崎技術支援部
K1350高分解能分析FE-SEM エネルギー分散型X線分析装置(EDS) 点分析点分析1視野1箇所につき16,500川崎技術支援部
K1351高分解能分析FE-SEM エネルギー分散型X線分析装置(EDS) 点分析追加点分析同一視野内で1箇所追加につき5,500川崎技術支援部
K1352高分解能分析FE-SEM エネルギー分散型X線分析装置(EDS) 線分析線分析1視野1箇所につき22,000川崎技術支援部
K1353高分解能分析FE-SEM エネルギー分散型X線分析装置(EDS) 線分析追加線分析同一視野内で1箇所追加につき8,360川崎技術支援部
K1354高分解能分析FE-SEM エネルギー分散型X線分析装置(EDS) 面分析面分析1視野につき33,000川崎技術支援部
K1356高分解能分析FE-SEM エネルギー分散型X線分析装置(EDS) 各種データ処理各種データ処理1条件につき5,500川崎技術支援部
(3)集束イオンビーム装置(FIB)
単位:円
NO.料金担当部名
K1640集束イオンビーム装置(FIB)1時間以内33,000川崎技術支援部
K1641集束イオンビーム装置(FIB) 追加追加1時間あたり28,600川崎技術支援部
K1642集束イオンビーム装置(FIB) (連続自動加工)追加1時間あたり(ただし、設定可能なものに限る)16,500川崎技術支援部
K1650FIBオプション カーボン膜デポジション10分あたり2,200川崎技術支援部
K1651FIBオプション タングステン膜デポジション10分あたり2,200川崎技術支援部
K1660FIBオプション マイクロプロービングシステム1時間あたり17,600川崎技術支援部
K1670FIBオプション アルゴンイオンミリング30分あたり11,000川崎技術支援部
K1680FIB付属のSEM1試料1視野観察につき19,800川崎技術支援部
K1681FIB付属のSEM 視野追加同一試料において1視野追加観察につき4,400川崎技術支援部
K1682FIB付属のSEM 条件追加同一試料において1条件追加につき4,400川崎技術支援部
K1690"FIB付属のSEMオプション EDS分析測定 点分析点分析1視野1箇所につき16,500川崎技術支援部
K1691FIB付属のSEMオプション EDS分析測定 点分析追加点分析同一視野内で1箇所追加につき5,500川崎技術支援部
K1694FIB付属のSEMオプション EDS分析測定 線分析線分析1視野1箇所につき22,000川崎技術支援部
K1695FIB付属のSEMオプション EDS分析測定 線分析追加線分析同一視野内で1箇所追加につき8,360川崎技術支援部
K1692FIB付属のSEMオプション EDS分析測定 面分析面分析1視野につき33,000川崎技術支援部
K1696FIB付属のSEMオプション EDS分析測定 各種データ処理各種データ処理1条件につき5,500川崎技術支援部
K1672FIB-SEMによる 三次元再構築用連続断面画像の取得1測定につき110,000川崎技術支援部
K1674FIB-SEMによる 三次元再構築用連続断面画像の取得  条件追加1条件追加につき11,000川崎技術支援部
K1730FIB-SEMによる 微小試験片の作製 標準標準的な作製(SEM観察含む)5本につき176,000川崎技術支援部
K1732FIB-SEMによる 微小試験片の作製 複雑複雑な作製(SEM観察含む) 5本につき264,000川崎技術支援部
K1735FIB-SEMによる 微小試験片の作製 条件追加1条件追加につき11,000川崎技術支援部
K1610マニピュレーターによるサンプリング1試料につき5,280川崎技術支援部
K1630レーザーマーキング15分以内4,840川崎技術支援部
K1635レーザーマーキング 追加追加15分あたり3,960川崎技術支援部
(4)マルチ解析用集束イオンビーム装置(FIB)
単位:円
NO.料金担当部名
K1940マルチ解析用集束イオンビーム装置(FIB)1時間以内33,000川崎技術支援部
K1941マルチ解析用集束イオンビーム装置(FIB) 追加追加1時間あたり28,600川崎技術支援部
K1942マルチ解析用集束イオンビーム装置(FIB)(連続自動加工)追加1時間あたり (ただし、設定可能なものに限る)16,500川崎技術支援部
K1950マルチ解析用FIBオプション カーボン膜デポジション10分あたり2,200川崎技術支援部
K1951マルチ解析用FIBオプション プラチナ膜デポジション10分あたり2,200川崎技術支援部
K1955マルチ解析用FIBオプション Easy Lift1時間あたり17,600川崎技術支援部
K1960マルチ解析用FIB付属のSEM1試料1視野観察につき19,800川崎技術支援部
K1961マルチ解析用FIB付属のSEM 視野追加同一試料において1視野追加観察につき4,400川崎技術支援部
K1962マルチ解析用FIB付属のSEM 条件追加同一試料において1条件追加につき4,400川崎技術支援部
K1965マルチ解析用FIB付属のSEMオプション 低真空低真空モードの使用11,000川崎技術支援部
K1970マルチ解析用FIB付属のSEMオプション EDS分析測定 点分析点分析1視野1箇所につき16,500川崎技術支援部
K1971マルチ解析用FIB付属のSEMオプション EDS分析測定 点分析追加点分析同一視野内で1箇所追加につき5,500川崎技術支援部
K1974マルチ解析用FIB付属のSEMオプション EDS分析測定 線分析線分析1視野1箇所につき22,000川崎技術支援部
K1975マルチ解析用FIB付属のSEMオプション EDS分析測定 線分析追加線分析同一視野内で1箇所追加につき8,360川崎技術支援部
K1976マルチ解析用FIB付属のSEMオプション EDS分析測定 面分析面分析1視野につき33,000川崎技術支援部
K1978マルチ解析用FIB付属のSEMオプション EDS分析測定 各種データ処理各種データ処理1条件につき5,500川崎技術支援部
K1980マルチ解析用FIB付属のSEMオプション EBSD分析測定 結晶方位マップ結晶方位マップ1視野につき45,100川崎技術支援部
K1981マルチ解析用FIB付属のSEMオプション EBSD分析測定 視野追加同一試料で1視野追加につき11,000川崎技術支援部
K1984マルチ解析用FIB付属のSEMオプション EBSD分析測定 条件追加1条件追加につき11,000川崎技術支援部
K1985マルチ解析用FIB付属のSEMオプション EBSD分析測定 各種データ処理各種データ処理1条件につき5,500川崎技術支援部
K1990マルチ解析用FIB-SEMによる三次元再構築用連続断面画像の取得1測定につき110,000川崎技術支援部
K1995マルチ解析用FIB-SEMによる三次元再構築用連続断面画像の取得 条件追加1条件追加につき11,000川崎技術支援部
K1930マルチ解析用FIB-SEMによる微小試験片の作製 標準標準的な作製(SEM観察含む)5本につき176,000川崎技術支援部
K1932マルチ解析用FIB-SEMによる微小試験片の作製 複雑複雑な作製(SEM観察含む) 5本につき264,000川崎技術支援部
K1935マルチ解析用FIB-SEMによる微小試験片の作製 条件追加1条件追加につき11,000川崎技術支援部
(5)画像解析システム
単位:円
NO.料金担当部名
K1832画像解析システム 三次元再構築1測定対象につき55,000川崎技術支援部
K1834画像解析システム 三次元データ処理1条件追加につき11,000川崎技術支援部
K1840画像解析システム 画像解析1測定対象につき22,000川崎技術支援部
K1842画像解析システム データ処理1条件追加につき5,500川崎技術支援部

(6)電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS)

(ア) TEM観察
単位:円
NO.料金担当部名
K1440電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)10万倍以下倍率 10万倍以下 1視野につき17,600川崎技術支援部
K1445電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)10万倍以下 1視野増倍率 10万倍以下 1視野増すごとに8,800川崎技術支援部
K1441電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)10万倍を超えて50万倍以下倍率 10万倍を超えて50万倍以下 1視野につき23,100川崎技術支援部
K1446電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)10万倍を超えて50万倍以下 1視野増倍率 10万倍を超えて50万倍以下 1視野増すごとに13,200川崎技術支援部
K1450電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)50万倍を超えて200万倍以下倍率  50万倍を超えて200万倍以下 1視野につき31,900川崎技術支援部
K1455電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)50万倍を超えて200万倍以下 1視野増倍率  50万倍を超えて200万倍以下 1視野増すごとに17,600川崎技術支援部
K1451電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)200万倍を超えるもの倍率 200万倍を超えるもの 1視野につき46,200川崎技術支援部
K1456電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)200万倍を超えるもの 1視野増倍率 200万倍を超えるもの 1視野増すごとに27,500川崎技術支援部
K1460電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)試料傾斜調整試料傾斜調整 1条件ごとに12,100川崎技術支援部
(イ) 電子線回折
単位:円
NO.料金担当部名
K1470電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)制限視野回折制限視野回折 1視野につき15,400川崎技術支援部
K1471電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)微小領域回折微小領域回折 1視野につき27,500川崎技術支援部
K1472電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)明視野像明視野像 1視野につき17,600川崎技術支援部
K1473電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)暗視野像暗視野像 1視野につき31,900川崎技術支援部
(ウ) エネルギー分散型X線分析装置(EDS)
単位:円
NO.料金担当部名
K1510電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 点分析点分析 1試料1測定点につき26,400川崎技術支援部
K1515電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 点分析追加点分析 同一試料において1測定点追加につき5,500川崎技術支援部
K1540電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 定量分析定量分析 1試料1測定点につき22,000川崎技術支援部
K1545電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 定量分析追加定量分析 同一試料において1測定点追加につき6,600川崎技術支援部
K1520電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 線分析線分析 1測定5元素までごとに66,000川崎技術支援部
K1530電界放出型分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS) 面分析面分析 1視野5元素ごとに、 または2時間につき102,300川崎技術支援部
(エ) データ処理
単位:円
NO.料金担当部名
K1550TEM データ処理各種データ処理 1条件につき11,000川崎技術支援部
(オ) 試料調製
単位:円
NO.料金担当部名
K1410TEM試料調製 分散法 ふりかけ法ふりかけ法 1試料につき5,500川崎技術支援部
K1411TEM試料調製 分散法 懸濁法懸濁法 1試料につき11,000川崎技術支援部
K1415TEM試料調製 電解研磨法1試料につき25,300川崎技術支援部
K1420TEM試料調製 イオンミリング法 易1試料につき99,000川崎技術支援部
K1421TEM試料調製 イオンミリング法 中1試料につき198,000川崎技術支援部
K1422TEM試料調製 イオンミリング法 難1試料につき297,000川崎技術支援部
K1425TEM試料調製 低エネルギーイオンミリング (ジェントルミル)1試料1条件につき13,200川崎技術支援部
K1432TEM試料調製 電子染色1試料につき26,400川崎技術支援部
K1433TEM試料調製 樹脂包埋1試料につき13,200川崎技術支援部
K1620TEM試料調製 FIB-リフトアウト法1試料につき80,300川崎技術支援部
K1621TEM試料調製 FIB-リフトアウト法 条件追加1条件追加につき28,600川崎技術支援部
K1625TEM試料調製 FIB-マイクロプロービング法 低加速ガリウムイオン低加速ガリウムイオン仕上げ 1試料につき110,000川崎技術支援部
K1663TEM試料調製 FIB-マイクロプロービング法 低加速ガリウムイオン 試料作製のみ低加速ガリウムイオン仕上げ 1試料につき(試料作製のみ)127,600川崎技術支援部
K1626TEM試料調製 FIB-マイクロプロービング法 低加速ガリウムイオン条件追加低加速ガリウムイオン仕上げ 1条件追加につき28,600川崎技術支援部
K1627TEM試料調製 FIB-マイクロプロービング法 アルゴンイオンミリングアルゴンイオンミリング仕上げ  1試料につき124,300川崎技術支援部
K1666TEM試料調製 FIB-マイクロプロービング法 アルゴンイオンミリング 試料作製のみアルゴンイオンミリング仕上げ  1試料につき(試料作製のみ)141,900川崎技術支援部
K1628TEM試料調製 FIB-マイクロプロービング法 アルゴンイオンミリング条件追加アルゴンイオンミリング仕上げ  1条件追加につき28,600川崎技術支援部
(カ)分析透過電子顕微鏡(FE-TEM / EDS)
単位:円
NO.料金担当部名
K1740分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)観察 10万倍以下観察倍率10万倍以下 1視野につき17,600川崎技術支援部
K1741分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)観察 10万倍以下 1視野追加観察倍率10万倍以下 同条件1視野追加につき8,800川崎技術支援部
K1745分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)観察 10万倍を超えて50万倍以下観察倍率10万倍を超えて50万倍以下 1視野につき23,100川崎技術支援部
K1746分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)観察 10万倍を超えて50万倍以下 1視野追加観察倍率10万倍を超えて50万倍以下 同条件1視野追加につき13,200川崎技術支援部
K1750分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)観察 50万倍を超えて200万倍以下観察倍率50万倍を超えて200万倍以下 1視野につき31,900川崎技術支援部
K1751分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)観察 50万倍を超えて200万倍以下 1視野追加観察倍率50万倍を超えて200万倍以下 同条件1視野追加につき17,600川崎技術支援部
K1755分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)観察 200万倍を超えるもの観察倍率200万倍を超えるもの 1視野につき46,200川崎技術支援部
K1756分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)観察 200万倍を超えるもの 1視野追加観察倍率200万倍を超えるもの 同条件1視野追加につき27,500川崎技術支援部
K1760分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)観察 試料傾斜調整試料傾斜調整 1条件につき 12,100川崎技術支援部
K1761分析透過電子顕微鏡(FE-TEM) 観察  制限視野回折制限視野回折 1視野につき15,400川崎技術支援部
K1768分析透過電子顕微鏡(FE-TEM) 観察  条件追加1条件追加につき 11,000川崎技術支援部
K1770FE-TEM エネルギー分散型X線分析装置(EDS)面分析面分析 1視野5元素ごとに、または2時間につき102,300川崎技術支援部
(7)画像観察
単位:円
NO.料金担当部名
K5110金属組織写真撮影写真1枚につき9,680川崎技術支援部
E0031
K5111写真焼増し写真1枚につき330川崎技術支援部
E0040
K5112外観写真撮影写真1枚につき4,840川崎技術支援部
E0050
K5113マクロ組織写真写真1枚につき7,260川崎技術支援部
E0060
K5114写真撮影1ヶ所増すごとに同一試料で1ヶ所増すごとに2,750川崎技術支援部
E0070
K5120顕微鏡試料調製(第1種):容易なもの1試料につき1,760川崎技術支援部
E0080
K5121顕微鏡試料調製(第2種):標準的なもの1試料につき3,300川崎技術支援部
E0090
K5122顕微鏡試料調製(第3種):比較的複雑なもの1試料につき6,600川崎技術支援部
E0091
K5123顕微鏡試料調製(第4種):非常に複雑なもの1試料につき9,680川崎技術支援部
E0092
K5330硬さ試験1点につき990川崎技術支援部
E0180
K5340硬さ試験試料調整(第1種):容易なもの1試料につき1,760川崎技術支援部
K5341硬さ試験試料調整(第2種):比較的容易なもの1試料につき3,300川崎技術支援部
K1910デジタルマイクロスコープ画像1枚につき4,180川崎技術支援部
K1720マイクロフォーカスX線検査装置30分以内6,600川崎技術支援部
K1725マイクロフォーカスX線検査装置 追加追加15分あたり2,860川崎技術支援部
(8)表面・成分分析装置
単位:円
NO.料金担当部名
K5002X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドスキャンのみ)1試料1ヶ所につき(ワイドスキャンのみ)26,400川崎技術支援部
K5005X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドスキャンのみ 追加試料)追加1試料1ヶ所につき(ワイドスキャンのみ)20,900川崎技術支援部
K5007X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドスキャンのみ 条件増)1条件増すごとに(ワイドスキャンのみ)5,500川崎技術支援部
K5011X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドおよびナロースキャン)1試料1条件につき(ワイドおよびナロースキャン)47,300川崎技術支援部
K5012X線光電子分光分析(XPS) 表面分析(ワイドおよびナロースキャン 条件増)1条件増すごとに(面分析、状態分析加算等)11,000川崎技術支援部
K5010X線光電子分光分析(XPS) 深さ方向分析1試料1条件につき(主成分のみ、深さ0.2μmまで)84,700川崎技術支援部
K5015X線光電子分光分析(XPS) 深さ方向分析 条件増1条件増すごとに11,000川崎技術支援部
K5050フーリエ変換赤外分光分析(FT-IR) 簡易な測定1試料1条件につき9,900川崎技術支援部
K5055フーリエ変換赤外分光分析(FT-IR)1試料1条件につき19,030川崎技術支援部
E2021
K5056フーリエ変換赤外分光分析(FT-IR) 条件追加1条件追加につき9,900川崎技術支援部
K1210微小部蛍光X線分析(XRF)1試料1条件につき7,700川崎技術支援部
K1211微小部蛍光X線分析(XRF) 条件追加1条件追加につき3,300川崎技術支援部
K1212微小部蛍光X線分析(XRF) 面分析面分析1条件につき(5元素まで)13,200川崎技術支援部
K1213微小部蛍光X線分析(XRF) 面分析 条件追加面分析1条件追加につき2,200川崎技術支援部
(9)光触媒JIS試験
単位:円
NO.料金担当部名
K3010光触媒の窒素酸化物除去性能試験1試料につき63,800川崎技術支援部
K3015光触媒の窒素酸化物除去性能試験 -再生率-1試料につき19,800川崎技術支援部
K3050光触媒のアセトアルデヒド除去性能試験1試料につき46,200川崎技術支援部
K3055光触媒のアセトアルデヒド除去性能試験 -バッグ法1試料につき40,700川崎技術支援部
K3060光触媒のトルエン除去性能試験1試料につき42,900川崎技術支援部
K3070光触媒のホルムアルデヒド除去性能試験1試料につき58,300川崎技術支援部
K3020光触媒のセルフクリーニング試験 湿式分解性能の測定1試料につき44,000川崎技術支援部
K3030光触媒のセルフクリーニング試験 水接触角の測定1試料につき64,900川崎技術支援部
K3080光触媒の水浄化性能試験(JISR1704準拠)(明条件のみ)1試料につき79,200川崎技術支援部
K3085光触媒の水浄化性能試験(JISR1704準拠)(暗条件のみ)1試料につき79,200川崎技術支援部
K3120その他光触媒性能試験1時間につき6,600川崎技術支援部
K3105光触媒性能試験JIS試験条件不成立時 (試験途中中止時)1試料につき22,000川崎技術支援部
K3040水接触角の測定(光触媒JIS試験以外)1試料1点につき4,400川崎技術支援部
K3045水接触角の測定(光触媒JIS試験以外) 追加1点追加につき1,100川崎技術支援部
K3110光触媒試料調製処理時間30分につき3,300川崎技術支援部
(10)太陽電池計測
単位:円
NO.料金担当部名
K3310太陽電池のIPCE測定1試料につき38,500川崎技術支援部
K3312太陽電池のIPCE測定 追加1試料または1条件追加につき10,780川崎技術支援部
K3320太陽電池のI-V測定1試料につき39,600川崎技術支援部
K3322太陽電池のI-V測定 追加1試料または1条件追加につき11,000川崎技術支援部
K3330太陽電池のI-V測定 LED特定波長1試料につき28,600川崎技術支援部
K3332太陽電池のI-V測定 LED特定波長 追加1試料または1条件追加につき8,360川崎技術支援部
K3340蛍光灯式シミュレータによるI-V測定1試料につき11,000川崎技術支援部
K3342蛍光灯式シミュレータによるI-V測定 追加1試料または1条件追加につき3,960川崎技術支援部
K3350XeランプSSによる連続照射24時間につき20,900川崎技術支援部
K3352XeランプSSによる連続照射 追加追加24時間につき18,700川崎技術支援部
K3360LED-SSによる特定波長の光照射24時間につき28,600川崎技術支援部
K3362LED-SSによる特定波長の光照射 追加追加24時間につき26,400川崎技術支援部
K3370蛍光灯式シミュレータによる連続照射24時間につき22,000川崎技術支援部
K3372蛍光灯式シミュレータによる連続照射 追加追加24時間につき19,800川崎技術支援部
K3390連続光照射に伴う簡易なI-V測定1回につき3,300川崎技術支援部
K3395太陽電池のインピーダンス測定1試料につき13,200川崎技術支援部
K3420発電面積規定用遮光マスク(面積測定済み)1枚につき1,760川崎技術支援部
K3431紫外線照射試験機(東洋精機製作所 Atlas UV test)24時間につき5,720川崎技術支援部
K3434紫外線照射試験機(東洋精機製作所 Atlas UV test) 連続100時間連続運転100時間につき20,900川崎技術支援部
K3436紫外線照射試験機 UV-B, C(東洋精機製作所 Atlas UV test)24時間につき6,820川崎技術支援部
K3437紫外線照射試験機 UV-B, C(東洋精機製作所 Atlas UV test) 連続100時間連続運転100時間につき23,320川崎技術支援部
K3440小型Xe耐光試験機(東洋精機製作所 Atlas SUNTEST XLS+)24時間につき7,040川崎技術支援部
K3442小型Xe耐光試験機(東洋精機製作所 Atlas SUNTEST XLS+) 連続100時間連続運転100時間につき24,200川崎技術支援部
K3450紫外・可視分光光度計による透過率・反射率測定1試料1条件につき5,940川崎技術支援部
K3452紫外・可視分光光度計による透過率・反射率測定 追加追加1条件につき3,520川崎技術支援部
K3460分光照度計による照度、演色性、色温度などの測定1試料1測定(5回測定)につき1,980川崎技術支援部
K3470分光放射照度計によるスペクトル測定1測定につき9,680川崎技術支援部
K36102灯式SSによる連続照射24時間につき48,950川崎技術支援部
K36122灯式SSによる連続照射 追加追加24時間につき47,520川崎技術支援部
K3620低照度環境下におけるI-V測定1条件につき5,060川崎技術支援部
K3622低照度環境下におけるI-V測定 追加1試料または1条件追加につき2,420川崎技術支援部
K3630低照度光源による光照射1時間につき3,850川崎技術支援部
K3632低照度光源による光照射 24時間24時間につき27,720川崎技術支援部
K3640無抵抗電流計による電流値測定1時間につき1,100川崎技術支援部
K3642無抵抗電流計による電流値測定 24時間24時間につき8,030川崎技術支援部
K3650データロガーによる測定1時間につき1,100川崎技術支援部
K3652データロガーによる測定 24時間24時間につき8,250川崎技術支援部
K3655オシロスコープ1時間につき1,980川崎技術支援部
K3657オシロスコープ 24時間24時間につき9,460川崎技術支援部
K3660光学測定に関わる作業1時間につき6,600川崎技術支援部
K3670色彩輝度計による輝度・色度・相関色温度の測定1測定につき4,290川崎技術支援部
K3672色彩輝度計による輝度・色度・相関色温度の測定 追加1測定追加につき2,860川崎技術支援部
K3680色差計による色差の測定1測定につき3,080
川崎技術支援部
K3690赤外線サーモグラフィーによる温度測定1測定につき2,530川崎技術支援部
(11)温湿度環境試験
単位:円
NO.料金担当部名
K5410恒温恒湿槽(中)24時間まで18,150川崎技術支援部
E1230
K5411恒温恒湿槽(中) 24時間増24時間増すごとに7,370川崎技術支援部
E1240
K5415恒温恒湿槽(中) サイクル24時間まで23,100川崎技術支援部
E1270
K5416恒温恒湿槽(中) サイクル 24時間増24時間増すごとに8,360川崎技術支援部
E1280
K5420恒温恒湿槽(小)24時間まで15,400川崎技術支援部
K5421恒温恒湿槽(小) 24時間増24時間増すごとに5,500川崎技術支援部
K5425恒温恒湿槽(小) サイクル24時間まで19,800川崎技術支援部
K5426恒温恒湿槽(小) サイクル 24時間増24時間増すごとに6,380川崎技術支援部
K5430恒温槽24時間まで10,340川崎技術支援部
K5431恒温槽 24時間増24時間増すごとに5,500川崎技術支援部
K5440プレッシャークッカー試験24時間まで18,150川崎技術支援部
E1320
K5441プレッシャークッカー試験 24時間増24時間増すごとに11,660川崎技術支援部
E1330
K5450冷熱衝撃試験 (小)8時間まで8,800川崎技術支援部
K5451冷熱衝撃試験 (小) 8時間増8時間増すごとに4,400川崎技術支援部
(12)試料前処理  (前項までの試験の各項目に適用)
単位:円
NO.料金担当部名
K4120試料前処理(切断、導電処理等)処理時間30分につき1,540川崎技術支援部
K4210精密機械研磨法 A:容易な試料1試料につき11,000川崎技術支援部
K4212精密機械研磨法 B:標準的な試料1試料につき22,000川崎技術支援部
K4214精密機械研磨法 C:複雑な試料1試料につき33,000川崎技術支援部
K4216精密機械研磨法 D:非常に複雑な試料1試料につき44,000川崎技術支援部
K4217精密機械研磨法 条件追加1条件追加につき5,500川崎技術支援部
K4220試料の撮影1試料1視野につき2,200川崎技術支援部
K4230断面イオンミリング法 (小さい試料用)  A:容易な試料1試料につき22,000川崎技術支援部
K4232断面イオンミリング法 (小さい試料用)  B:標準的な試料1試料につき44,000川崎技術支援部
K4234断面イオンミリング法 (小さい試料用)  C:複雑な試料1試料につき66,000川崎技術支援部
K4236断面イオンミリング法 (小さい試料用)  D:非常に複雑な試料1試料につき88,000川崎技術支援部
K4237断面イオンミリング法 (小さい試料用)  条件追加1条件追加につき5,500川崎技術支援部
K4238断面イオンミリング法 (小さい試料用)  クライオクライオの使用 1試料につき5,500川崎技術支援部
K4240平面イオンミリング法 (小さい試料用)  A:容易な試料1試料につき11,000川崎技術支援部
K4242平面イオンミリング法 (小さい試料用)  B:標準的な試料1試料につき22,000川崎技術支援部
K4244平面イオンミリング法 (小さい試料用)  C:複雑な試料1試料につき33,000川崎技術支援部
K4246平面イオンミリング法 (小さい試料用)  D:非常に複雑な試料1試料につき44,000川崎技術支援部
K4247平面イオンミリング法 (小さい試料用)  条件追加1条件追加につき5,500川崎技術支援部
K4248平面イオンミリング法 (小さい試料用)  クライオクライオの使用 1試料につき5,500川崎技術支援部
K4250断面イオンミリング法 (大きい試料用)  A:容易な試料1試料につき22,000川崎技術支援部
K4252断面イオンミリング法 (大きい試料用)  B:標準的な試料1試料につき44,000川崎技術支援部
K4254 断面イオンミリング法 (大きい試料用)  C:複雑な試料1試料につき66,000川崎技術支援部
K4256断面イオンミリング法 (大きい試料用)  D:非常に複雑な試料1試料につき88,000川崎技術支援部
K4257断面イオンミリング法 (大きい試料用)  条件追加1条件追加につき5,500川崎技術支援部
K4258断面イオンミリング法 (大きい試料用)  クライオクライオの使用 1試料につき5,500川崎技術支援部
K4260平面イオンミリング法 (大きい試料用)  A:容易な試料1試料につき11,000川崎技術支援部
K4262平面イオンミリング法 (大きい試料用)  B:標準的な試料1試料につき22,000川崎技術支援部
K4264平面イオンミリング法 (大きい試料用)  C:複雑な試料1試料につき33,000川崎技術支援部
K4266平面イオンミリング法 (大きい試料用)  D:非常に複雑な試料1試料につき44,000川崎技術支援部
K4267平面イオンミリング法 (大きい試料用)  条件追加1条件追加につき5,500川崎技術支援部
K4270イオンビームスパッタ1試料につき5,500川崎技術支援部
K4280ウルトラミクロトーム法  A:容易な試料1試料につき22,000川崎技術支援部
K4282ウルトラミクロトーム法  B:標準的な試料1試料につき44,000川崎技術支援部
K4284ウルトラミクロトーム法  C:複雑な試料1試料につき66,000川崎技術支援部
K4286ウルトラミクロトーム法  D:非常に複雑な試料1試料につき88,000川崎技術支援部
K4287ウルトラミクロトーム法  条件追加1条件追加につき5,500川崎技術支援部
K4288ウルトラミクロトーム法  クライオクライオの使用 1試料につき55,000川崎技術支援部
K4310カーボンコーティング1試料につき3,080川崎技術支援部
K4320金コーティング1試料につき3,080川崎技術支援部
K4330白金コーティング1試料につき3,080川崎技術支援部
K4340パラジウムコーティング1試料につき3,080川崎技術支援部
K4350オスミウムコーティング1試料につき3,080川崎技術支援部
K4170分散法 ふりかけ法1試料につき5,500川崎技術支援部
K4171分散法 懸濁法1試料につき11,000川崎技術支援部
K4175電解研磨法1試料につき25,300川崎技術支援部
K4176イオンミリング法 易1試料につき99,000川崎技術支援部
K4177イオンミリング法 中1試料につき198,000川崎技術支援部
K4178イオンミリング法 難1試料につき297,000川崎技術支援部
K4180低エネルギーイオンミリング(ジェントルミル)1試料1条件につき13,200川崎技術支援部
K4185樹脂包埋1試料につき13,200川崎技術支援部
K4192電子染色1試料につき26,400川崎技術支援部
K4195その他特殊処理1試料につき16,500川崎技術支援部
K4196その他特殊処理  条件追加1条件追加につき16,500川崎技術支援部
(13)成績書の複本の交付
単位:円
NO.料金担当部名
K9030成績書の複本・データ等の交付1通につき(写真を含む場合は別に加算することができる)300川崎技術支援部
E5350

2. 技術開発受託報告書の作成(消費税等10%を含みます)

単位:円
NO.料金担当部名
K9050技術開発受託報告書の作成(データ処理)基本単位 (難易度により加算あり)2,750川崎技術支援部
K9060技術開発受託報告書の作成(考察)基本単位 (難易度により加算あり)5,500川崎技術支援部
K9070技術開発受託報告書の複本1通につき(写真を含む場合は別に加算することができる)300川崎技術支援部

3. 機器使用料金(消費税等10%を含みます)

(1)観察、分析、評価機器
単位:円
NO.料金担当部名
K2015FE-SEM/EDS S-4800 (1時間あたり)日立ハイテクノロジーズ S-480038,500川崎技術支援部
K2411FE-TEM/EDS EM-002BF (1時間あたり)トプコン EM-002BF56,100川崎技術支援部
K2425低エネルギーイオン研磨装置 Model IV5(ジェントルミル) (1時間あたり)リンダ社 Model IV5(ジェントルミル)11,000川崎技術支援部
K2642集束イオンビーム装置 XVision200TB (1時間あたり)SII社 XVision200TB53,350川崎技術支援部
K2660TEM用グリッド (1個あたり)3,740川崎技術支援部
K2681マルチ解析用集束イオンビーム装置 Scios (1時間あたり)FEI社 Scios51,700川崎技術支援部
K2690TEM用グリッド (1個あたり) Scios使用3,740川崎技術支援部
K2610マニピュレーター SISA-30TI-2 (30分あたり)ナリシゲ SISA-30TI-22,860川崎技術支援部
K2635レーザーマーカ LR2100ST(30分あたり)HOYA LR2100ST2,860川崎技術支援部
K6050フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR)FT/IR-6300FV・IRT-7000(1時間あたり)日本分光 FT/IR-6300FV・IRT-70008,800川崎技術支援部
K2210微小部蛍光X線分析装置(XRF) SEA6000VX HSFinder (1時間あたり)SII社 SEA6000VX HSFinder5,500川崎技術支援部
K6110金属顕微鏡  BX-51 (1時間あたり)オリンパス光学工業 BX-511,540川崎技術支援部
K2915デジタルマイクロスコープ VHX-600 (30分あたり)キーエンス VHX-6001,540川崎技術支援部
K2720マイクロフォーカスX線検査装置  MXT-160UU (30分以内)メディエックステック MXT-160UU3,740川崎技術支援部
K2725マイクロフォーカスX線検査装置  MXT-160UU (追加15分あたり)メディエックステック MXT-160UU1,540川崎技術支援部
K6370表面粗さ形状測定機  サーフコム 550A  (1時間あたり)東京精密 サーフコム550A1,320川崎技術支援部
K3550紫外・可視分光光度計 UH4150(1時間以内)日立ハイテクサイエンス UH41507,920川崎技術支援部
K3552紫外・可視分光光度計 UH4150(追加30分あたり)日立ハイテクサイエンス UH41502,640川崎技術支援部
K3540接触角計 DM300 (1時間あたり)協和界面科学 DM3003,300川崎技術支援部
K3560赤外線サーモグラフィー日本アビオニクス TVS-200EX4,290川崎技術支援部
(2)温湿度環境試験機器
単位:円
NO.料金担当部名
K6430恒温槽(室温~300℃) PVH-110M (1時間あたり)エスペック PVH-110M440川崎技術支援部
K6420恒温恒湿槽(小)(-40~150℃) ETAC TH411HA (1時間あたり)楠本化成 ETAC TH411HA660川崎技術支援部
K6410恒温恒湿槽(中)(-40~150℃) ETAC FX424P  (1時間あたり)楠本化成 ETAC FX424P880川崎技術支援部
K6460恒温恒湿槽(-40~100℃) PL-3FPW (1時間あたり)エスペック PL-3FPW880川崎技術支援部
K6440プレッシャークッカー ETAC PM420 (1時間あたり)楠本化成 ETAC PM420880川崎技術支援部
K6450冷熱衝撃試験機(小) ETAC TS100 (1時間あたり)楠本化成 ETAC TS1001,100川崎技術支援部
K2815冷熱衝撃試験機(小) ETAC NT1050W (1時間あたり)楠本化成 ETAC NT1050W1,100川崎技術支援部
K2820超低温恒温恒湿槽(-70~150℃) PSL-2KPH (1時間あたり)エスペック PSL-2KPH880川崎技術支援部
(3)電磁環境試験機器、電気計測機器
単位:円
NO.料金担当部名
K2310電波暗室(測定帯域 30MHz~1GHz) TDK製(3m法)  (1時間以内)TDK製(3m法)8,140川崎技術支援部
K2311電波暗室(測定帯域 30MHz~1GHz) TDK製(3m法)  (追加30分あたり)TDK製(3m法)3,520川崎技術支援部
K2315電波暗室 (測定帯域 1GHz~18GHz) TDK製(3m法)  (1時間以内)TDK製(3m法)9,240川崎技術支援部
K2316電波暗室 (測定帯域 1GHz~18GHz) TDK製(3m法) (追加30分あたり)TDK製(3m法)4,180川崎技術支援部
K2430シールドルーム SH-H1313  (1時間以内)ノイズ研究所製 SH-H13133,080川崎技術支援部
K2431シールドルーム SH-H1313 (追加30分あたり)ノイズ研究所製 SH-H13131,100川崎技術支援部
K2440シールドテント  TM-2.5-1.7-2-2 (1時間以内)富山電気ビルディング製 TM-2.5-1.7-2-22,860川崎技術支援部
K2441シールドテント  TM-2.5-1.7-2-2 (追加30分あたり)富山電気ビルディング製 TM-2.5-1.7-2-21,320川崎技術支援部
K2450EMI測定システムA(放射雑音測定)  N9010A EXA  (1時間以内)キーサイトN9010A5,280川崎技術支援部
K2451EMI測定システムA(放射雑音測定) N9010A EXA (追加30分あたり)キーサイトN9010A1,540川崎技術支援部
K2460EMI測定システムA(伝導性雑音測定) N9010A EXA  (1時間以内)キーサイトN9010A4,180川崎技術支援部
K2461EMI測定システムA(伝導性雑音測定) N9010A EXA  (追加30分あたり)キーサイトN9010A1,100川崎技術支援部
K2350インピーダンス安定化回路網(ISN)  ISN T8、ISN T8CAT6 (1時間以内)TESEQ社 ISN T8,T8CAT61,320川崎技術支援部
K2351インピーダンス安定化回路網(ISN) ISN T8、ISN T8CAT6 (追加30分あたり)TESEQ社 ISN T8,T8CAT6220川崎技術支援部
K2330電源高調波電流測定器 PM3000ACE他 (1時間以内)Voltec PM3000ACE他2,860川崎技術支援部
K2331電源高調波電流測定器 PM3000ACE他 (追加30分あたり)Voltec PM3000ACE他880川崎技術支援部
K2380パルスイミュニティ試験器  Compact NX5 (1時間以内)EM Test NX52,970川崎技術支援部
K2381パルスイミュニティ試験器  Compact NX5 (追加30分あたり)EM Test NX51,210川崎技術支援部
K2360静電気試験器 ESS-S3011&GT-30R (1時間以内)ノイズ研究所 ESS-S3011&GT-30R2,860川崎技術支援部
K2361静電気試験器 ESS-S3011&GT-30R (追加30分あたり)ノイズ研究所 ESS-S3011&GT-30R1,320川崎技術支援部
K2776伝導イミュニティ試験器 NSG2070 (1時間以内)SCHAFFNER NSG20703,080川崎技術支援部
K2777伝導イミュニティ試験器 NSG2070 (追加30分あたり)SCHAFFNER NSG20701,540川崎技術支援部
K2370ノイズシミュレータ   INS-4040 (1時間以内)ノイズ研究所 INS-40403,080川崎技術支援部
K2371ノイズシミュレータ   INS-4040 (追加30分あたり)ノイズ研究所 INS-40401,540川崎技術支援部
K2778電磁波妨害源探査装置  EPS-M1 (1時間以内)ノイズ研究所 EPS-M12,640川崎技術支援部
K2779電磁波妨害源探査装置  EPS-M1 (追加30分あたり)ノイズ研究所 EPS-M11,320川崎技術支援部
K2340ノイズ発生器  CNEⅢ (1時間あたり)ヨーク社 CNEⅢ880川崎技術支援部
K6510オシロスコープ  WaveRunner62Xi (1時間あたり)レクロイ WaveRunner62Xi2,420川崎技術支援部
K6515ACミリオームハイテスター  3560 (1時間あたり)日置電機3560660川崎技術支援部
K6517超絶縁計 SM-8220 (1時間あたり)日置電機SM-8220220川崎技術支援部
K6518交流耐電圧試験器 3158 (1時間あたり)日置電機3158220川崎技術支援部
(4)機器操作指導料
単位:円
NO.料金担当部名
K7030機器操作指導料 (開放利用時に適用) 15分あたり立会人1人、15分あたり2,640川崎技術支援部