電子線リソグラフィ

電子線リソグラフィ

 

電子線リソグラフィ、電子線描画、電子線直接描画、電子ビーム直接描画

項目 内容
試験名 電子線リソグラフィ
手数料No E1200
分類 機械装置、電気・電子部品等の性能評価試験/電気・電子関係の試験/半導体関係の試験
内容 電子線リソグラフィによる電子線レジスト樹脂への高精細パターン形成
補足説明 数十~数百ナノメートルの微細パターンの形成加工や電子線描画処理が可能です。
応用例:研究、開発段階での微細パターンの試作、薄膜パターニング、ナノインプリント用型の形成、微細構造を利用した表面加工(光の反射率低減など)、高周波増幅器、センサー類の作製など
使用機器例 電子線描画装置(エリオニクス、ELS-S50)
試験対象 ウエハサイズ:3インチφ、4インチφ
小片試料サイズ:10mm角、20mm角、25mm角
マスクサイズ:4インチ角、5インチ角
試料サイズが4インチ以上の場合、試料上でパターン形成ができない場所が一部あります。
現像処理などについては別途の試験「電子線リソグラフィ 試料調整」で対応します。
備考 E1200:1時間につき
担当 電子技術部

  • 「使用機器例」とは当試験のために使用する機器の名称で、クリックすると詳細説明がご覧になれます。
  • 「手数料」とは当研究所職員がお客様のご依頼を受けて試験等を実施する場合の料金です。
  • この他にオーダーメードでもお受けできます。