光学多層薄膜上の異常部の解析
測定例
光学多層薄膜の表面を確認
試料:SiO2(基板)/TiO2/SiO2/TiO2/SiO2・・・
成膜方法:PVD
※SEM観察のためPtをコート済み
→ 異常部をSEMで観察。
光学多層薄膜上の異常部の元素分析
→ 1、2に明瞭な違い無し。内部に問題か??
異常部をFIBにて断面加工
→ 異常部の最下層に異物を発見!!
異常部断面の元素分析(面分析)
成膜前の基板上の異物が原因と考えられる
納期予定
サンプル到着後、1週間から10日で結果速報。
利用料金項目
項目 | 単位 | 数量 | |
---|---|---|---|
試料前処理 | 処理時間30分につき | 1 | |
集束イオンビーム装置(FIB-SEM) | FIB | 1時間以内 | 1 |
追加1時間あたり | 1 | ||
SEM | 1試料1視野観察につき | 1 | |
同一試料において1視野追加観察につき | 4 | ||
EDS | 面分析1視野につき(5元素まで) | 1 | |
面分析1元素追加につき | 1 |
川崎技術支援部
TEL:044-819-2105 FAX:044-819-2108
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