分析装置一覧
形態観察・画像観察
| 装置・機器・試験機名/<略式名称>/メーカー/型式 | 仕様等 |
|---|---|
| デジタルマイクロスコープ キーエンス社 VHX-600 |
レンズ ： 0～40倍、20～200倍、 100～1000倍（通常観察に加えて偏光，微分干渉，明視野，暗視野での観察が可能） 解像度 ： 最高5400万画素（1800万画素×3CCDモード） 計測機能 ： 距離、角度、半径、面積など 利用可能メディア ： CD-R / CD-RW、USBメモリー |
| 金属顕微鏡・光学顕微鏡 オリンパス光学工業株式会社 BX-51 |
撮影モード ： 反射,透過,偏光,明視野,暗視野,微分干渉 対物レンズ ： 2.5× 5× 10× 20× 50× 100× 最大標本高さ ： 60mm 試料ステージの大きさ ： 100(X)×100(Y)mm, 4インチ/3インチ ウエハホルダ付属 CCDカメラ ： 1250万画素 |
| マクロ撮影イメージングシステム カールツァイスマイクロイメージング SteREO Discovery.V20 |
レンズ ： ×2.3～×45、×7.5～×150、×11.3～×225 解像度 ： 4124×3120（画素） 照明装置 ： フレキシブル、リング、同軸 画像のスケール表示： 任意の倍率で自動認識 |
| 万能顕微鏡 ライカ MRXA |
画像解析処理システム付属機器 光源 ： ハロゲン光,水銀光 撮影モード ： 反射,反射偏光,微分干渉,透過,透過偏光, 透過微分干渉,暗視野,蛍光 観察倍率 ： 50～1500倍 試料ステージ移動距離 ： 80ｍｍ×50ｍｍ 最大試料高さ ： 55mm |
| 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡<FE-SEM> 日立ハイテクノロジーズ S-4800 FE-SEM付属 EDS分析装置 |
二次電子像分解能 ： 1.0nm（15kV），1.4nm（1kVリターディングモード） その他 ： STEM観察、EBIC観察 分析モード ： 点分析、線分析、面分析 |
| 高分解能分析走査電子顕微鏡<FE-SEM> 日本電子（株） JSM-7800F Prime FE-SEM付属 EDS分析装置 |
分解能：0.7nm（15kV）、0.7nm（1kV）、3.0nm（5kV、WD10ｍｍ、5nA） その他：STEM観察、低真空観察、GB観察 分析モード：点分析、線分析、面分析 |
| 集束イオンビーム・走査電子顕微鏡・アルゴンミリング複合装置 <FIB・SEM・Arトリプルビーム> エスアイアイ・ナノテクノロジー（株） XVision200TB FIB・SEM・Arトリプルビーム付属 エネルギー分散型検出器（EDS） サーモフィッシャーサイエンティフィック ＮＯＲＡＮ Ｓｙｓｔｅｍ７ |
分解能 ： FIB/4nm(30kV), SEM/3nm(5kV) プローブ電流 ： FIB/0.15pA～45nA, SEM/4pA～20nA,Arミリング/10nA(Max) 加速電圧 ： FIBおよびSEM/1～30kV, Ar/0.5～1.0kV 試料寸法 ： 最大200mm：φ (JEIDA規格ウェーハ対応可) その他 ： カーボンまたはタングステンのデポジション マイクロプロービングシステム EDS搭載 分析モード：点分析、線分析、面分析 分析元素：Ｂ～Ｕ |
| 超高分解能電界放出型分析透過電子顕微鏡<FE-TEM> トプコンテクノハウス EM-002BF TEM付属 EDS分析装置 サーモフィッシャーサイエンティフィック NORAN System SIX（検出器2台装備） |
加速電圧 ： 20～200kV 最小分析領域 ： 0.3nm径 |
表面分析
| 装置・機器・試験機名/<略式名称>/メーカー/型式 | 仕様等 |
|---|---|
| 走査型マイクロX線光電子分光分析装置 <µ-XPS・µ-ESCA> アルバックファイ社 Quantera SXM |
Al KaモノクロX線 分析可能最小ビーム径：9µm Arイオン銃、中和銃、角度分解分析、加熱冷却機能搭載 試料サイズ：75×75×20mm（最大Φ100mmの試料が取り付け可能） |
成分分析
| 装置・機器・試験機名/<略式名称>/メーカー/型式 | 仕様等 |
|---|---|
| フーリエ変換赤外分光光度計 <FT-IR> 日本分光（株） FT/IR-6300FV |
波数範囲 ： 7,800～150cm-1 波数分解能(最高) ： 0.07cm-1 オプションユニット ： 顕微赤外、顕微ATR、 顕微RAS、拡散反射、一回反射ATR |
| 微小部蛍光Ｘ線分析装置 <XRF> エスアイアイ・ナノテクノロジー（株） SEA6000VX HSFinder |
X線源：空冷式小型X線管球（Wターゲット） 分析領域：200μm，500μm，1.2mm，3mm 上面照射、コリメータ方式 分析元素：Mg～U （Heパージ使用時 Na～U） 試料サイズ：450×580×150 mm 面分析：250×200mm 最大試料サイズ：450×580×150 mm ビームサイズ：200μm，500μm，1.2mm，3mm 最大マッピング面積：250×200mm |
光触媒JIS試験
| 装置・機器・試験機名/<略式名称>/メーカー/型式 | 仕様等 |
|---|---|
| 窒素酸化物除去試験装置 （システム一式） 湿度発生装置／神栄電気 SRG-1R-3 ガスブレンダー／コフロック GB-2C NOx計／堀場製作所 APNA-370 紫外線照射反応システム／特注品 |
25℃、湿度50%の空気を3L/min供給 一酸化窒素標準ガスを1ppmに希釈して供給 スパン0～1ppm、分解能1ppb 触媒表面で紫外線照度10W/m2 |
| イオンクロマトグラフ 東ソー IC-2001 |
硝酸イオン、亜硝酸イオン 測定下限＜1ppb |
構造解析と非破壊検査
| 装置・機器・試験機名/<略式名称>/メーカー/型式 | 仕様等 |
|---|---|
| マイクロフォーカスX線検査装置 メディエックステック MXT-160UU |
最大試料寸法 ： 300mm×250mm 管電圧 ： 10～160kV 焦点寸法 ： 1µm以下 拡大率 ： ×1～1000 ステージ可動範囲 ： X方向 300, Y方向 250, Z方向 250mm, 回転 360°, 傾斜 0～60° |
精密加工装置・工作機・測定装置名
開放機器利用料| 加工機名 | メーカー・型式 |
|---|---|
| レーザーマーカ | レーザー波長 ： 532nmと355nmの２種類（切替式） 照射ビーム寸法： 1μm角～150μm角 マーキング対象： 金属材料、絶縁材料、TFT、FPDなど |
| 精密イオン研磨装置 （ジェントルミル） |
リンダ社/Model IV5 |
| ミクロトーム | RMC社/MT-X ウルトラミクロトーム クライオシステム付属 |
| オスミウムコーター | 真空デバイス社/HPC-1SW |
| 切断機 | ニシムラ/NM-60 |
| 表面粗さ形状測定機 | 東京精密/サーフコム550A |
電気計測
| 装置名 | メーカー・型式 |
|---|---|
| オシロスコープ | レクロイ WaveRunner62Xi |
| カーブ・トレーサ | ソニーテクトロニクス 571型 |
| ダブルブリッジ | 横河電機 2752型 |
| ホイーストンブリッジ | 横河電機 2768型 |
| エレクトロニック検流計 | 横河電機 2709型 |
| ACミリオームハイテスター | 日置電機 3560 |
| マルチフリケンシLCRメータ | YHP 4284A、4285A |
| 超絶縁計 | 日置電機 SM-8220 |
| 交流耐電圧試験器 | 日置電機 3158 |
材料強度試験
| 万能材料試験機 →海老名本部に移管 |
| シャルピー衝撃試験機 →海老名本部に移管 |
| 硬さ試験機 ブリネル |
| 硬さ試験機 ロックウェル |
| 硬さ試験機 ビッカーズ |
| 硬さ試験機 微小硬度計 |
| 硬さ試験機 ヌープ |
| 硬さ試験機 スーパフィッシャル |
電磁環境試験
| 電波暗室 |
| EMI測定システム |
| インピーダンス安定化回路網(ISN) |
| 電源高調波電流測定器 |
| 簡易放射イミュニティ試験器 |
| パルスイミュニティ試験器 |
| 静電気試験器 |
| 伝導イミュニティ試験器 |
| ノイズシミュレータ |
| 電磁波妨害源探査装置 |
| ノイズ発生器 |
川崎技術支援部
ＴＥＬ：044-819-2105 ＦＡＸ：044-819-2108
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