分析装置一覧
形態観察・画像観察
装置・機器・試験機名/<略式名称>/メーカー/型式 | 仕様等 |
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デジタルマイクロスコープ キーエンス社 VHX-600 |
レンズ : 0~40倍、20~200倍、 100~1000倍(通常観察に加えて偏光,微分干渉,明視野,暗視野での観察が可能) 解像度 : 最高5400万画素(1800万画素×3CCDモード) 計測機能 : 距離、角度、半径、面積など 利用可能メディア : CD-R / CD-RW、USBメモリー |
金属顕微鏡・光学顕微鏡 オリンパス光学工業株式会社 BX-51 |
撮影モード : 反射,透過,偏光,明視野,暗視野,微分干渉 対物レンズ : 2.5× 5× 10× 20× 50× 100× 最大標本高さ : 60mm 試料ステージの大きさ : 100(X)×100(Y)mm, 4インチ/3インチ ウエハホルダ付属 CCDカメラ : 1250万画素 |
マクロ撮影イメージングシステム カールツァイスマイクロイメージング SteREO Discovery.V20 |
レンズ : ×2.3~×45、×7.5~×150、×11.3~×225 解像度 : 4124×3120(画素) 照明装置 : フレキシブル、リング、同軸 画像のスケール表示: 任意の倍率で自動認識 |
超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡<FE-SEM> 日立ハイテクノロジーズ S-4800 FE-SEM付属 EDS分析装置 |
二次電子像分解能 : 1.0nm(15kV),1.4nm(1kVリターディングモード) その他 : STEM観察、EBIC観察 分析モード : 点分析、線分析、面分析 |
高分解能分析走査電子顕微鏡<FE-SEM> 日本電子(株) JSM-7800F Prime FE-SEM付属 EDS分析装置 |
分解能:0.7nm(15kV)、0.7nm(1kV)、3.0nm(5kV、WD10mm、5nA) その他:STEM観察、低真空観察、GB観察 分析モード:点分析、線分析、面分析 |
集束イオンビーム・走査電子顕微鏡・アルゴンミリング複合装置 <FIB・SEM・Arトリプルビーム> エスアイアイ・ナノテクノロジー(株) XVision200TB FIB・SEM・Arトリプルビーム付属 エネルギー分散型検出器(EDS) サーモフィッシャーサイエンティフィック NORAN System7 |
分解能 : FIB/4nm(30kV), SEM/3nm(5kV) プローブ電流 : FIB/0.15pA~45nA, SEM/4pA~20nA,Arミリング/10nA(Max) 加速電圧 : FIBおよびSEM/1~30kV, Ar/0.5~1.0kV 試料寸法 : 最大200mm:φ (JEIDA規格ウェーハ対応可) その他 : カーボンまたはタングステンのデポジション マイクロプロービングシステム EDS搭載 分析モード:点分析、線分析、面分析 分析元素:B~U |
超高分解能電界放出型分析透過電子顕微鏡<FE-TEM> トプコンテクノハウス EM-002BF TEM付属 EDS分析装置 サーモフィッシャーサイエンティフィック NORAN System SIX(検出器2台装備) |
加速電圧 : 20~200kV 最小分析領域 : 0.3nm径 |
表面分析
装置・機器・試験機名/<略式名称>/メーカー/型式 | 仕様等 |
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走査型マイクロX線光電子分光分析装置 <µ-XPS・µ-ESCA> アルバックファイ社 Quantera SXM |
Al KaモノクロX線 分析可能最小ビーム径:9µm Arイオン銃、中和銃、角度分解分析、加熱冷却機能搭載 試料サイズ:75×75×20mm(最大Φ100mmの試料が取り付け可能) |
成分分析
装置・機器・試験機名/<略式名称>/メーカー/型式 | 仕様等 |
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フーリエ変換赤外分光光度計 <FT-IR> 日本分光(株) FT/IR-6300FV |
波数範囲 : 7,800~150cm-1 波数分解能(最高) : 0.07cm-1 オプションユニット : 顕微赤外、顕微ATR、 顕微RAS、拡散反射、一回反射ATR |
微小部蛍光X線分析装置 <XRF> エスアイアイ・ナノテクノロジー(株) SEA6000VX HSFinder |
X線源:空冷式小型X線管球(Wターゲット) 分析領域:200μm,500μm,1.2mm,3mm 上面照射、コリメータ方式 分析元素:Mg~U (Heパージ使用時 Na~U) 試料サイズ:450×580×150 mm 面分析:250×200mm 最大試料サイズ:450×580×150 mm ビームサイズ:200μm,500μm,1.2mm,3mm 最大マッピング面積:250×200mm |
光触媒JIS試験
装置・機器・試験機名/<略式名称>/メーカー/型式 | 仕様等 |
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窒素酸化物除去試験装置 (システム一式) 湿度発生装置/神栄電気 SRG-1R-3 ガスブレンダー/コフロック GB-2C NOx計/堀場製作所 APNA-370 紫外線照射反応システム/特注品 |
25℃、湿度50%の空気を3L/min供給 一酸化窒素標準ガスを1ppmに希釈して供給 スパン0~1ppm、分解能1ppb 触媒表面で紫外線照度10W/m2 |
イオンクロマトグラフ 東ソー IC-2001 |
硝酸イオン、亜硝酸イオン 測定下限<1ppb |
構造解析と非破壊検査
装置・機器・試験機名/<略式名称>/メーカー/型式 | 仕様等 |
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マイクロフォーカスX線検査装置 メディエックステック MXT-160UU |
最大試料寸法 : 300mm×250mm 管電圧 : 10~160kV 焦点寸法 : 1µm以下 拡大率 : ×1~1000 ステージ可動範囲 : X方向 300, Y方向 250, Z方向 250mm, 回転 360°, 傾斜 0~60° |
精密加工装置・工作機・測定装置名
加工機名 | メーカー・型式 |
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レーザーマーカ | レーザー波長 : 532nmと355nmの2種類(切替式) 照射ビーム寸法: 1μm角~150μm角 マーキング対象: 金属材料、絶縁材料、TFT、FPDなど |
精密イオン研磨装置 (ジェントルミル) |
リンダ社/Model IV5 |
ミクロトーム | RMC社/MT-X ウルトラミクロトーム クライオシステム付属 |
オスミウムコーター | 真空デバイス社/HPC-1SW |
切断機 | ニシムラ/NM-60 |
表面粗さ形状測定機 | 東京精密/サーフコム550A |
電気計測
装置名 | メーカー・型式 |
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オシロスコープ | レクロイ WaveRunner62Xi |
カーブ・トレーサ | ソニーテクトロニクス 571型 |
ダブルブリッジ | 横河電機 2752型 |
ホイーストンブリッジ | 横河電機 2768型 |
エレクトロニック検流計 | 横河電機 2709型 |
ACミリオームハイテスター | 日置電機 3560 |
マルチフリケンシLCRメータ | YHP 4284A、4285A |
超絶縁計 | 日置電機 SM-8220 |
交流耐電圧試験器 | 日置電機 3158 |
材料強度試験
万能材料試験機 →海老名本部に移管 |
シャルピー衝撃試験機 →海老名本部に移管 |
硬さ試験機 ブリネル |
硬さ試験機 ロックウェル |
硬さ試験機 ビッカーズ |
硬さ試験機 微小硬度計 |
硬さ試験機 ヌープ |
硬さ試験機 スーパフィッシャル |
電磁環境試験
電波暗室 |
EMI測定システム |
インピーダンス安定化回路網(ISN) |
電源高調波電流測定器 |
簡易放射イミュニティ試験器 |
パルスイミュニティ試験器 |
静電気試験器 |
伝導イミュニティ試験器 |
ノイズシミュレータ |
電磁波妨害源探査装置 |
ノイズ発生器 |
川崎技術支援部
TEL:044-819-2105 FAX:044-819-2108
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