【募集終了】2019年第2回「ナノファブスクウエア」開催のご案内(会場:NANOBIC)
募集を終了しました |
第2回 レーザー直接描画装置 講習・実習会
慶應義塾大学、早稲田大学、東京工業大学、東京大学からなる4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアムでは、川崎市、KISTECと連携し、産学連携による新しい技術や産業の創出を図るため、新川崎・創造のもりのナノ・マイクロ産学官共同研究施設『NANOBIC』において、4大学の先端機器の利用開放を行っています。
今後、4大学の機器を更に効果的にご利用いただくため、企業や大学の方を対象とした装置講習・実習会を開催しますのでご参加ください。
日 時
〇 2019年5月30日(木)
〇 13:30~16:30 ※講習1時間、実習2時間
場 所
〇 かわさき新産業創造センター(KBIC) 集合場所:AIRBIC 会議室 3
(川崎市幸区新川崎7-7 新川崎・創造のもり JR新川崎駅から徒歩10分)
>>Mapはこちら
講 師
〇 山本 貴富喜 先生 ( 東京工業大学工学院 准教授 )
実習内容
〇 フォトレジストへのリソグラフィの体験実習
実習機器
〇 レーザー直接描画装置(DWL66fs)† *
†Heiderberg Instruments Mikrotechnik 社製。
*機器詳細仕様は「NANOBICオープンラボ」ホームページ http://open-labo.skr.jp/ の機器一覧をご覧下さい。
主 催
〇 4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
〇 (地独) 神奈川県立産業技術総合研究所
〇 川崎市
共 催
〇 次世代マイクロ化学チップコンソーシアム
定 員
〇 5名程度(先着)
参加費
〇 1万円(実費)
申込書
〇 参加申込書
*4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム ナノファブスクエア講習・実習会 (参加申込書)を
ダウンロードしていただき必要事項をご記入後、下記申込先のメールアドレスへお送りください。
申込先
Tel : 080-6560-3061/ E-mail : karasawa⋆newkast.or.jp |
※詳細および問合せはこちらのチラシをご覧ください。
※「ナノファブスクウェア」の年間スケジュールはこちら。