【募集終了】2019年第2回「ナノファブスクウエア」開催のご案内（会場：NANOBIC）
| 募集を終了しました |
第２回 レーザー直接描画装置 講習・実習会
慶應義塾大学、早稲田大学、東京工業大学、東京大学からなる4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアムでは、川崎市、KISTECと連携し、産学連携による新しい技術や産業の創出を図るため、新川崎・創造のもりのナノ・マイクロ産学官共同研究施設『NANOBIC』において、4大学の先端機器の利用開放を行っています。
今後、4大学の機器を更に効果的にご利用いただくため、企業や大学の方を対象とした装置講習・実習会を開催しますのでご参加ください。
日 時
〇 ２０１９年５月３０日（木）
〇 １３：３０～１６：３０ ※講習１時間、実習２時間
場 所
〇 かわさき新産業創造センター（KBIC） 集合場所：AIRBIC 会議室 3
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり ＪＲ新川崎駅から徒歩１０分）
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講 師
〇 山本 貴富喜 先生 （ 東京工業大学工学院 准教授 ）
実習内容
〇 フォトレジストへのリソグラフィの体験実習
実習機器
〇 レーザー直接描画装置（DWL66fs）† *
†Heiderberg Instruments Mikrotechnik 社製。
＊機器詳細仕様は「NANOBICオープンラボ」ホームページ http://open-labo.skr.jp/ の機器一覧をご覧下さい。
主 催
〇 4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
〇 (地独) 神奈川県立産業技術総合研究所
〇 川崎市
共 催
〇 次世代マイクロ化学チップコンソーシアム
定 員
〇 ５名程度（先着）
参加費
〇 １万円（実費）
申込書
〇 参加申込書
＊４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム ナノファブスクエア講習・実習会 （参加申込書）を
ダウンロードしていただき必要事項をご記入後、下記申込先のメールアドレスへお送りください。
申込先
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Tel ： 080-6560-3061／ E-mail ： karasawa⋆newkast.or.jp |
※詳細および問合せはこちらのチラシをご覧ください。
※「ナノファブスクウェア」の年間スケジュールはこちら。