第４回「ナノファブスクエア」開催のご案内（会場：NANOBIC）

募集期間は終了しました。

第４回精密フォトリソグラフィ　講習・実習会

日　時	２０１７年６月２３日（金） 14：00～17：00（講習１時間、実習２時間）
場　所	かわさき新産業創造センター（KBIC）新館 NANOBIC （川崎市幸区新川崎7-7 新川崎・創造のもりＪＲ新川崎駅から徒歩１０分）
講　師	佐藤友美（(地独)神奈川県立産業技術総合研究所、東京大学大学院工学系研究科）
実習内容	フォトレジストの性質、精密露光や現像のテクニックについて講習を行います。さらにNANOBICのマスクアライナーを使って実習を行っていただくことで、精密フォトリソグラフィを習得できます。
主　催	４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム、（地独）神奈川県立産業技術総合研究所（KISTEC）、川崎市
共　催	次世代マイクロ化学チップコンソーシアム
定　員	５名程度（先着）
参加費	1万円（実費）

　※詳細およびお問合せははこちらのチラシをご覧ください。

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