【募集終了】第4回 「ナノファブスクエア」開催のご案内(会場:NANOBIC)
募集期間は終了しました。
第4回 精密フォトリソグラフィ 講習・実習会
新川崎・創造のもりのNANOBICオープンラボ ナノ・マイクロ技術講習・実習会
日 時 |
2017年6月23日(金) 14:00~17:00(講習1時間、実習2時間) |
場 所 |
かわさき新産業創造センター(KBIC)新館 NANOBIC (川崎市幸区新川崎7-7 新川崎・創造のもり JR新川崎駅から徒歩10分) |
講 師 |
佐藤 友美 |
実習内容 |
フォトレジストの性質、精密露光や現像のテクニックについて講習を行います。さらにNANOBICのマスクアライナーを使って実習を行っていただくことで、精密フォトリソグラフィを習得できます。 |
主 催 |
4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム、(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市 |
共 催 |
次世代マイクロ化学チップコンソーシアム |
定 員 |
5名程度(先着) |
参 加 費 |
1万円(実費) |
※詳細およびお問合せははこちらのチラシをご覧ください。
※「ナノファブスクエア」の年間スケジュールはこちら。