第4回 「ナノファブスクエア」開催のご案内(会場:NANOBIC)

募集期間は終了しました。

第4回 精密フォトリソグラフィ  講習・実習会

新川崎・創造のもりのNANOBICオープンラボ ナノ・マイクロ技術講習・実習会

日   時

2017年6月23日(金)

14:00~17:00(講習1時間、実習2時間)

場   所

かわさき新産業創造センター(KBIC)新館 NANOBIC

(川崎市幸区新川崎7-7 新川崎・創造のもり JR新川崎駅から徒歩10分)

講   師

佐藤 友美
((地独)神奈川県立産業技術総合研究所、東京大学大学院工学系研究科)

実習内容

フォトレジストの性質、精密露光や現像のテクニックについて講習を行います。さらにNANOBICのマスクアライナーを使って実習を行っていただくことで、精密フォトリソグラフィを習得できます。

主   催

4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム、(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市

共   催

次世代マイクロ化学チップコンソーシアム

定   員

5名程度(先着)

参 加 費

1万円(実費)

 ※詳細およびお問合せははこちらのチラシをご覧ください。

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