プラズマ処理装置

用途・特徴について

真空槽内に設けた並行平板型の電極に高周波を印加し、原料ガスをプラズマで分解する装置です。減圧下で、水素プラズマ処理が可能です。

ご利用方法

試験計測(依頼試験) で利用できます。

 *試験計測(依頼試験)の詳細についてはこちらをご確認ください。

 *技術開発受託(受託研究) の詳細についてはこちらをご確認ください。

手数料または使用料NO.

この機器を使用した料金表の項目は以下の通りです。

メーカー

日本真空技術株式会社

仕様

13.56MHz、500W RF電源/基板加熱温度:350℃/基板:4インチ以下/導入可能ガス:水素、アルゴン

導入年度

1986

 

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  • 担当:化学技術部 新エネルギーグループ
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