高温小型真空雰囲気炉
この装置について
用途・特徴について
シリコンや炭化ケイ素(SiC)の半導体用の専用熱処理炉です。真空、不活性ガス(Arガス)雰囲気で熱処理可能です。
ご利用方法
機器使用 で利用できます。*機器使用の詳細についてはこちらをご確認ください。
*技術開発受託(受託研究) の詳細についてはこちらをご確認ください。
手数料または使用料NO.
この機器を使用した料金表の項目は以下の通りです。■ 料金表 (機器使用料金)
項目番号 | 設備機器名 | メーカー・型式 | 使用料(円) |
---|---|---|---|
E6760 | 高温小型真空雰囲気炉 | ナガノ NEWTONIAN PASCAL40 | 6,600 |
メーカー
株式会社ナガノ型番
NEWTONIAMPASCAL40仕様
使用可能温度:~1800℃/
雰囲気: 真空中/Ar雰囲気中
試料寸法:φ35㎜以下、
高さ35mm以下
導入年度
平成4年度- この装置に関連するお問い合わせ
- 担当:電子技術部 電子材料グループ
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