高温小型真空雰囲気炉

この装置について


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用途・特徴について

シリコンや炭化ケイ素(SiC)の半導体用の専用熱処理炉です。
真空、不活性ガス(Arガス)雰囲気で熱処理可能です。

ご利用方法

機器使用 で利用できます。

 *機器使用の詳細については[海老名本部][溝の口支所]をそれぞれご確認ください。

 *技術開発受託(受託研究) の詳細についてはこちらをご確認ください。

手数料または使用料NO.

この機器を使用した料金表の項目は以下の通りです。

■ 料金表 (機器使用料金)

項目番号設備機器名メーカー・型式使用料(円)
E6760高温小型真空雰囲気炉ナガノ NEWTONIAN PASCAL406,600

メーカー

株式会社ナガノ

型番

NEWTONIAMPASCAL40

仕様

使用可能温度:~1800℃/
雰囲気: 真空中/Ar雰囲気中
試料寸法:φ35㎜以下、
高さ35mm以下

導入年度

1992

 

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  • 担当:電子技術部 電子材料グループ
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