高温小型真空雰囲気炉

この装置について

用途・特徴について

シリコンや炭化ケイ素（SiC）の半導体用の専用熱処理炉です。
真空、不活性ガス（Arガス）雰囲気で熱処理可能です。

ご利用方法

機器使用 で利用できます。

　*機器使用の詳細についてはこちらをご確認ください。

　*技術開発受託（受託研究） の詳細についてはこちらをご確認ください。

手数料または使用料NO.

この機器を使用した料金表の項目は以下の通りです。

■ 料金表 (機器使用料金)

項目番号	設備機器名	メーカー・型式	使用料（円）
E6760	高温小型真空雰囲気炉	ナガノ　NEWTONIAN PASCAL40	6,600

メーカー

株式会社ナガノ

型番

NEWTONIAMPASCAL40

仕様

使用可能温度：～1800℃／
雰囲気：　真空中／Ar雰囲気中
試料寸法：φ35㎜以下、
高さ35mm以下

導入年度

平成4年度