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2026年3月26日
走査型プローブ顕微鏡
概要
試料表面の三次元形状をナノレベルで観察する装置です。形状のほか、機械特性や電気特性、磁気特性、熱特性の物性像を取得することもできます。大型電動ステージを搭載したことで8インチまでの半導体ウェハ等に対応し、機械化学研磨(CPM)試料、フォトマスク用ガラスなどに対応可能です。また、軟X線照射除電装置も付属し、絶縁材料基板や静電気が発生しやすい樹脂材料などに適しています。
【用途】
・ナノレベルの表面三次元形状の取得
・ナノレベルの表面粗さ計測
・薄膜材料の表面形態観察
・材料の物性像評価
【特徴】
・表面電位像や電流像の電気特性評価に対応 (NanoElectrical 電気特性評価パッケージ)
・高精度な弾性率マッピング (PeakForce QNM High-Accuracyオプション)
・高分解能磁気像 (PeakForce MFMオプション)
・熱伝導率像などの熱特性評価 (SThMモジュール)
・軟X線照射除電装置によって帯電しやすい絶縁材料や樹脂材料に対応可能
機器情報
| メーカー名 | Bruker |
|---|---|
| 型番 | Dimension XR NanoElectrical |
| 仕様 | X-Yスキャン範囲: 90µm×90µm Zスキャン範囲: 10µm サンプルサイズ: 直径210mm以下 電動ステージ範囲: 150mm × 180mm 対応モード: 形状(コンタクトモード、タッピングモード、ピークフォースタッピングモード)、 機械特性(PeakForce QNM)、電気特性(KPFM, TUNA)、磁気特性(MFM)、熱特性(SThM)、圧電応答顕微鏡 付属設備: 軟X線照射除電装置 |
| 導入年度 | 令和7年度 |
ご利用方法
依頼試験(KISTEC事業名:試験計測)、委託受託(KISTEC事業名:技術開発受託)で利用できます。
