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2026年3月17日
透明導電膜のTEM観察事例
単結晶基板上に作製した透明導電膜の結晶性や析出物の有無などを断面方向から観察し、膜構造を明らかにしました。
明瞭な高分解能観察が求められるため、低エネルギーイオンミリングを用いて仕上げ加工を行いました。
<使用機器>
分析透過電子顕微鏡(FE-TEM/EDS)
集束イオンビーム装置(FIB)
低エネルギーイオンミリング装置(Gentle Mill)
<作業工程>
FIB-マイクロプロービング法による試料作製 → 低エネルギーイオンミリング → TEM観察
<納期>
担当職員にお問い合わせください。
測定例

使用機器
料金
| NO. | 項目 | 単位 | 料金 |
|---|---|---|---|
| K120413-05 | 分析透過電子顕微鏡観察(FE-TEM/EDS)[EM002BF] 50万倍を超えて200万倍以下 |
倍率 50万倍を超えて200万倍以下 1視野につき |
35,530 |
| K120440-03 | TEM試料調製 FIB-マイクロプロービング法 低加速ガリウムイオン | 低加速ガリウムイオン仕上げ 1試料につき | 122,100 |
| K120437-03 | TEM試料調製 低エネルギーイオンミリング (ジェントルミル) | 1試料1条件につき | 14,850 |
| K120413-07 | 分析透過電子顕微鏡観察(FE-TEM/EDS)[EM002BF] 200万倍を超えるもの |
倍率 200万倍を超えるもの 1視野につき | 51,590 |
ご利用方法
依頼試験(KISTEC事業名:試験計測)、委託受託(KISTEC事業名:技術開発受託)で利用できます。