旧産技センター職員発明特許等の情報 旧産技センターID : 125

出願番号 2000-230650
公開番号 2002-47569
公開年月日 2002年02月15日
出願人 神奈川県
発明者 秋山賢輔、大屋誠志郎
発明の名称 還移元素シリサイド薄膜の成膜方法
国際特許分類(IPC) C23C16/42,H01L21/205,H01L31/04,H01L33/00
概要
備考