MOCVD法で作製したβ-FeSi2薄膜の結晶粒観察事例

単結晶基板上にMOCVD法で作製したβ-FeSi2膜の結晶性、結晶サイズ、膜厚を断面方向からの観察で明らかにしました。

<使用機器>

分析透過電子顕微鏡(FE-TEM)
集束イオンビーム装置(FIB)
低エネルギーイオンミリング装置(Gentle Mill)

<作業工程>

試料作製(FIB-マイクロサンプリング法)  →  低エネルギーイオンミリング  →  TEM観察

<納期>

担当職員にお問い合わせください。

<測定例>

図1 β-FeSi2薄膜の明視野像
図1 β-FeSi2薄膜の明視野像
図2 図4のaの規則格子反射を用いた暗視野像 
図2 図4のaの規則格子反射を用いた暗視野像 
図3 図4のbの規則格子反射を用いた暗視野像 
図3 図4のbの規則格子反射を用いた暗視野像 
図4 電子線回折像[110]入射 
図4 電子線回折像[110]入射