令和4年度 ナノファブスクエア
ナノファブスクエアin海老名について 慶應義塾大学、早稲田大学、東京工業大学、東京大学からなる4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアムでは、 川崎市、KISTECと連携し、産学連携による新しい技術や産業の創出を図るため、新川崎・創造のもりのナノ・マイクロ産学官共同研究施設『NANOBIC』において、4大学の先端機器によるナノファブスクエアを開催しています。 ナノファブスクエアin海老名では、4回の講習・実習会を開催し、「首都圏地下鉄路線網シリコンマイクロ流路」をモデルチップとし、シリコン酸化、シリコン異方性エッチング、ナノパターン形成および陽極接合について学ぶことができます。 第３回シリコン酸化 シリコン基板に熱酸化法による薄膜を形成し、フォトリソグラフィにより、マイクロ流路パターンを形成します。 第４回シリコン異方性エッチング シリコン基板上に、熱酸化膜をマスクとして、異方性ウェットエッチングによるマイクロ流路パターンを形成します。 第５回ナノパターン形成 シリコン基板に塗布されたレジストに、電子線描画によりハーフピッチ200nmのパターンを形成します。 第６回陽極接合 ガラスとマイクロ流路を形成したシリコン基板を陽極接合する講義・実習を行います。陽極接合は、シリコンMEMSチップ実装の封止に使用される技術です。
ナノファブスクエアin海老名
第３回 令和４年６月 ２日（木）１３：３０～１６：３０
第４回 令和４年６月 ９日（木）１３：３０～１６：３０
第５回 令和４年６月１６日（木）１３：３０～１６：３０
第６回 令和４年６月２３日（木）１３：３０～１６：３０
詳細（各回共通）
- 会場 地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所 海老名本部
- 受講料 各回11,000円（税込、テキスト代込）
- 定員 各回5名（先着順）
- 主催 ○４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
〇川崎市
〇地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所
申込締切日
- 第３回 令和4年5月17日（火）
- 第４回 令和4年5月24日（火）
- 第５回 令和4年5月28日（金）
- 第６回 令和4年6月7日（火）
講師
- 第３回 栗原 幸男（KISTEC電子技術部）
- 第４回 黒内 正仁（KISTEC電子技術部）
- 第５回 黒内 正仁（KISTEC電子技術部）
- 第６回 安井 学（KISTEC電子技術部）
装置
- 第３回 酸化炉
- 第４回 ドラフト
- 第５回 電子線描画装置
- 第６回 陽極接合装置
受講料支払い方法
原則、申込締切日以降に請求書を郵送いたします。 請求書に記載されている指定の口座に、開講日までにお振り込みください。 開講日までのお振り込みが難しい場合は、事務局までご連絡ください。
キャンセルについて
原則、キャンセルはお受けいたしかねます。 やむを得ない事情によりキャンセルをご希望される場合は、以下期日までに事務局にご連絡ください。 第３回 令和4年5月17日（火） 第４回 令和4年5月24日（火） 第５回 令和4年5月28日（金） 第６回 令和4年6月7日（火）
新型コロナウイルス感染症について
- マスク着用、手洗い・手指消毒、ソーシャルディスタンスの確保等にご協力ください。
- 大声での会話はお控えください。
- クリーンルームでは、フェイスシールドの着用をお願いいたします。
- 風邪の症状、発熱、倦怠感、息苦しさがある方はご来所をお控えください。
- 注）受付時に健康状態の確認をさせていただいております。該当する症状がある方は、恐れ入りますが、ご入所をご遠慮いただきます。
リーフレット
確認事項＜重要＞
次の事項をご確認の上、お申込みください。
- 申込締切後、受講決定者には受講料請求書等の必要書類を郵送いたします。
- 許可なく講義内容の一部、およびすべてを複製、転載または撮影、配布、印刷など、第三者の利用に供することを禁止します。
- やむを得ない事情により、日程・内容等の変更や中止をする場合があります。
- 保証書必要事項をご記入の上、参加日当日にご持参ください。【保証書はこちら】
- 当日は13:10より受付開始とさせていただきます。
お問合せ
（地独）神奈川県立産業技術総合研究所 人材育成部 教育研修課 産業人材研修グループ TEL 046-236-1500 Eｰmail sm_sangyoujinzai★kistec.jp ※★を＠に変換してください。