微細加工・MEMS開発を支援する機器設備と開発事例
薄膜作製を中心に各種加工やセンサー等の開発をお手伝いします
電子線描画装置
両面マスクアライナ
ウェットステーション
イオンプレーティング装置(薄膜蒸着装置)
ECRプラズマエッチャー
陽極接合装置
マクトロンスパッタ装置(3元磁性膜対応)
酸化拡散装置
評価装置一覧
構造分析 |
X線回折(薄膜:逆格子マッピング、 XRR、粉末) 、EBSP(FE-SEM)、超音波顕微鏡 |
表面観察 |
FE-SEM、レーザー顕微鏡、SPM |
表面分析 |
XPS, EPMA, SPM |
光学評価 |
エリプソメータ、フォトルミネッセンス、ラマン分光、エネルギー分光(分光感度)、位相差 |
電気測定 |
ホール測定、半導体パラメータ測定(I-V,C-V等) |
磁気測定 |
B-H測定、磁気抵抗、Kerr効果、薄膜磁歪 |
膜厚評価 |
触針式、光学干渉式、非接触式膜厚測定、エリプソメータ、レーザー顕微鏡 |
実装関係一覧
電子基板用インクジェットプリンター、ペースト精密塗布装置、金属ナノペースト接合装置 超音波映像装置、X線マイクロフォーカス撮像装置、X線CT装置 はんだ継手強度試験、ダイシェア試験、ワイヤーボンディング強度試験、パワーサイクル試験
開発事例
バイオ・化学系 | 電気化学センサ(ドーパミン、ヒスタミン)、グルコース検出用マルチリアクター、μカラムチップ搭載ラクトースセンサ、マイクロ燃料電池等。 |
物理センサ系 |
マイクロ風洞型風速計、シリコン歪センサ、近赤外線IDシリコンセンサ、薄膜磁気センサ、導波路型光電界センサ、カルマン渦流量計用センサ、モスアイ無反射構造4H-SiC紫外線センサ等、白金薄膜温度センサ。 |
MEMS関係 |
シリコンオプティカルベンチ、シリコンブリッジ赤外線光源、ムービングマグネット式磁気駆動型光スキャナ、LIGA like プロセスによるNi電鋳、 PDMS・PMMA成形等 |
その他 | Ni-W金型によるガラスのインプリント成形、ファジー推論を取り入れた色識別装置 |
各種薄膜作成 |
各種金属膜、a-Si:H, YBCO, BSCCO, TiN, DLC, グラフェン, ダイヤモンド, SiC, FeSi, SiO2, HfO, MgO, YSZ, Al2O3, Ta2O5, TiO, ZnO, ITO, PLZT, Ni-Fe,Ni-Fe-Mo-Mn, Co-Pt, Co-Fe等 (膜形成法:真空蒸着、反応性イオンプレーティング、反応性スパッタリング、パルスレーザー蒸着、熱CVD等) |
シリコンオプティカルベンチ
SiC無反射構造
シリコンブリッジ赤外線光源
磁気駆動型光スキャナ
マイクロカラムチップ搭載ラクトースセンサ
最近の仕事
電子線レジスト近接効果補正の簡素的な手法の検討
アルミ箔へのナノプリント
SIP:超3D 造形技術プラットフォーム (SIPのHPはこちら)
青色半導体レーザーを用いた普及型マイクロ光造形法
- 廉価・コンパクトな装置でサブミクロン加工線幅を達成(加工線幅: 0.5〜10μm)
- 低倍率レンズを用いてcmサイズの3D樹脂モデルも造形可能
- KISTECに設置・利用開始