構造解析用集束イオンビーム装置(FIB-SEM/EDS/EBSD)

最新のFIB-SEMです。局所領域の断面加工と観察、TEM試料作製、三次元解析を行うことが可能です。本装置は高性能電子光学系を有したSEMを搭載しているため、金属、セラミックス、有機物など様々な試料から多様な情報を得ることができます。元素分析装置(EDS)、結晶方位解析装置(EBSD)も搭載しており、多角的な解析を実現します。

装置

構造解析用集束イオンビーム装置(FIB-SEM/EDS/EBSD)

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特徴

・微細な領域の断面加工と観察を行うことができます。
・材料の三次元解析を行うことができます。
・付属のEDSにより、試料の元素分析を行うことができます。
・付属のEBSDにより、結晶性材料の方位解析を行うことができます。
・低真空モードを使用することで、セラミックス等の絶縁材料を無蒸着で分析することができます。

メーカー

日本エフイー・アイ株式会社

型式

Scios LoVacシステム

仕様

SEM分解能 1.0nm(15kV)、1.6nm(1kV)
検出器二次電子検出器
反射電子検出器
推奨試料サイズ最大30mm径×10mm程度
FIB分解能5nm
EDSX-MaxN 150mm2(Oxford製)
分析モード点分析、線分析、面分析
分析対象元素B~U
その他低真空観察(10~50Pa)
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  • 担当:川崎技術支援部