エレクトロニクス・表面技術フォーラム｜＠海老名会場
KISTEC Innovation Hub 2026 フォーラム番号：e20-8
対面開催
エレクトロニクス・表面技術フォーラム
政府が2026年7月に閣議決定した日本成長戦略（危機管理投資、成長投資）の中核をなすAI・半導体では微細加工技術が不可欠である。
その中核技術であるSiドライエッチングについて歴史的な流れから実企業における応用事例、そして、その技術が半導体以外でも利用されている例として、マイクロ流体デバイスによる高運動性精子の回収までご講演いただきます。
開催概要
フォーラム詳細
| 時間 | タイトル | 講演者名 | 講演者所属 |
|---|---|---|---|
| 13：00～13：05 | 開会挨拶 | 近藤 英一 | 一般社団法人表面技術協会 関東支部 部長 |
| 13：05～14：15 | 時代を変え世界を変えたシリコン深掘り技術 | 神永 晉 | 東レ株式会社 |
| 14：15～14：45 | 企業におけるドライエッチング技術について | 松浦 誠司 | 株式会社協同インターナショナル |
| 14：45～15：00 | 休憩 | ||
| 15：00～16：10 | Si金型を用いたマイクロ流路の作製とそれを用いた応用研究 | 百武 徹 | 横浜国立大学 教授 |
| 16：10～16：30 | 見学会 | ||
| 16：30～16：35 | 閉会の挨拶、名刺交換 | 菅間 秀晃 | KISTEC 電子技術部 |
＊敬称略
＊11月以降に概要資料を掲載予定（一部）
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