分析フォーラム～蛍光X線分析を中心とした分析技術の活用～｜＠海老名会場
KISTEC Innovation Hub 2026 フォーラム番号：e19-3
対面開催
分析フォーラム
蛍光X線分析を中心とした分析技術の活用
本フォーラムでは、株式会社堀場テクノサービス 泉悠樹氏より、試料の構成元素を非破壊で分析できる蛍光X線分析について、原理や実際の分析事例、測定・解析のポイントをご講演いただきます。
続いて、当所職員より、蛍光X線分析をはじめ、ICP-OESや炭素・硫黄分析装置による化学分析、FTIRなどの機器分析手法を活用した課題解決に役立つ分析事例や、目的に応じた分析手法の選択、さらにRoHS指令対応における有害元素分析の実際についてご紹介します。
また、フォーラム内でご紹介した分析装置をご見学いただけます。
開催概要
フォーラム詳細
| 時間 | タイトル | 講演者名 | 講演者所属 |
|---|---|---|---|
| 13：00～13：05 | 開会挨拶 | 内田 剛史 | KISTEC 化学技術部 |
| 13：05～14：05 | 分析事例から学ぶ蛍光X線分析 ―最新の微小部蛍光X線分析装置の活用と測定のポイント― 概要：蛍光X線分析（XRF）の原理および微小部X線分析装置を用いたアプリケーションをご紹介します。 材料の定性・定量分析、元素イメージング分析、異物解析などの実際の分析事例を通じて、多岐にわたる分析課題に対する微小部X線分析装置の活用方法を解説します。 また、試料調製や測定条件が分析結果に及ぼす影響、データを解釈する際の注意点についても併せてご説明します。 | 泉 悠樹 | 株式会社堀場テクノサービス 分析技術本部 |
| 14：05～14：20 | 材料分析による故障解析 ― 蛍光X線分析とFTIRなど機器分析手法の活用 ― | 田中 聡美 | KISTEC 化学技術部 |
| 14：20～14：35 | 化学分析による金属材料の定量 ― 分析手法の選択と蛍光X線分析の活用 ― | 松谷 貴史 | KISTEC 化学技術部 |
| 14：35～14：50 | RoHS有害無機元素分析の実際 ― 試料前処理から評価まで ― | 坂尾 昇治 | KISTEC 化学技術部 |
| 14：50～15：30 | 見学会 | ||
＊敬称略
＊11月以降に概要資料を掲載予定（一部）
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