【募集終了】令和２年度 第４回「ナノファブスクエア in 海老名」開催のご案内
第４回 ナノパターン形成
企業の技術者や大学研究者を対象に「ナノパターン形成」に係る装置講習・実習会を開催します。
第４回は、シリコン上のレジストに電子線描画でナノパターンを形成して、レジストパターン（ハーフピッチ200nm）を観察し、電子線描画技術の基本を実習します。
ナノファブスクエアin海老名について
慶應義塾大学、早稲田大学、東京工業大学、東京大学からなる4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアムでは、 川崎市、KISTECと連携し、産学連携による新しい技術や産業の創出を図るため、
新川崎・創造のもりのナノ・マイクロ産学官共同研究施設『NANOBIC』において、4大学の先端機器によるナノファブスクエアを開催しています。
ナノファブスクエアin海老名では、4回の講習・実習会を開催し、「首都圏地下鉄路線網シリコンマイクロ流路」を
モデルチップとし、シリコン酸化、ナノパターン形成、シリコン異方性エッチングおよび陽極接合について学ぶことができます。
日 時
令和２年１０月２２日（木）１３：３０～１６：３０ ー募集終了ー
申込締切
定員に達しました。お申込みありがとうございました。
場 所
（地独）神奈川県立産業技術総合研究所（KISTEC）海老名本部
海老名市下今泉７０５－１（小田急線・相鉄線・JR海老名駅から徒歩約１５分）
講 師
黒内 正仁（地方独立行政法人 神奈川県立産業技術総合研究所 電子技術部）
実習内容
電子線描画装置によるレジストへのナノパターン形成の実習を行います。
実習機器
電子線描画装置（株）エリオニクス製 ELS-S50
※ミクロンサイズからナノサイズの電子線レジストパターンを形成できます。
フォトリソグラフィ用のマスクの作製も可能。
詳細
こちらをご覧ください。
年間スケジュール
こちらをご覧ください。
新型コロナウイルス感染症について
弊所では、神奈川県の方針に従い、新型コロナウイルス感染症拡大防止対策を進めております。
・マスク着用、手指消毒、ソーシャルディスタンスの確保等にご協力ください。
・クリーンルームでは、フェイスシールドの着用をお願いいたします。
・風症状、倦怠感、息苦しさがある方は、受講をご遠慮いただく場合がございます。
主 催
◆４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
◆（地独）神奈川県立産業技術総合研究所
◆川崎市
定 員
５名程度（先着）
参 加 費
11,000円（実費）
申 込 書
申込書はこちら
※４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム ナノファブスクエアin海老名
講習・実習会（参加申込書）をダウンロードしていただき必要事項をご記入後、
申込先のメールアドレスへお送りください。
申 込 先
（地独）神奈川県立産業技術総合研究所 人材育成部 教育研修課
Eｰmail sm_sangyoujinzai@kistec.jp