【募集終了】令和2年度 第1回「ナノファブスクエア 」開催のご案内(会場:NANOBIC)
第1回 フォトマスク作製
企業の技術者や大学研究者を対象に「レーザー直接描画装置」に係る講習・実習会を開催します。
フォトレジストへのリソグラフィの体験実習を行います。
ナノファブスクエアについて
慶應義塾大学、早稲田大学、東京工業大学、東京大学からなる4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアムでは、 川崎市、KISTECと連携し、産学連携による新しい技術や産業の創出を図るため、
新川崎・創造のもりのナノ・マイクロ産学官共同研究施設『NANOBIC』において、4大学の先端機器の利用開放を行っています
日 時
令和2年10月1日(木)13:30~16:30
※講習1時間、実習2時間
場 所
かわさき新産業創造センター(KBIC) 集合場所:AIRBIC 会議室 3
(川崎市幸区新川崎7-7 新川崎・創造のもり JR新川崎駅から徒歩10分)
講 師
山本 貴富喜(東京工業大学工学院 准教授)
実習内容
フォトレジストへのリソグラフィの体験実習
実習機器
レーザー直接描画装置(DWL66fs)†*
†Hedgerberg Instruments Mikrotechink社製
*機器詳細仕様は「NANOBICオープンラボ」ホームページhttp://open-labo.skr.jp/の機器一覧をご覧下さい。
詳細
こちらをご覧ください。
年間スケジュール
こちらをご覧ください。
新型コロナウイルス感染症について
感染防止措置の一つとして、4大コンソ設備機器利用時にフェイスシールド着用をお願いすることになりました。また、NANOBIC CR前室入口が変更になりました。ご利用前にご一読ください。
入館手順はこちらをご覧ください。
主 催
◆4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
◆(地独)神奈川県立産業技術総合研究所
◆川崎市
定 員
5名程度(先着)
参 加 費
11,000円(実費+コロナ対策実費)
申 込 書
申込書はこちら
※4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム ナノファブスクエア
講習・実習会(参加申込書)をダウンロードしていただき必要事項をご記入後、
申込先のメールアドレスへお送りください。
申 込 先
技術担当者:篠原俊朗
Tel :080-6560-3061
E-mail :nanobic-open(at)newkast.or.jp ※(at)を@に変えてください
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所