令和2年度 第1回「ナノファブスクエア 」開催のご案内(会場:NANOBIC)

第1回 フォトマスク作製

 企業の技術者や大学研究者を対象に「レーザー直接描画装置」に係る講習・実習会を開催します。
 フォトレジストへのリソグラフィの体験実習を行います。

 

 ナノファブスクエアについて

 慶應義塾大学、早稲田大学、東京工業大学、東京大学からなる4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアムでは、 川崎市、KISTECと連携し、産学連携による新しい技術や産業の創出を図るため、
 新川崎・創造のもりのナノ・マイクロ産学官共同研究施設『NANOBIC』において、4大学の先端機器の利用開放を行っています

 

日  時


 令和2年10月1日(木)13:30~16:30
  ※講習1時間、実習2時間

 

場  所


 かわさき新産業創造センター(KBIC) 集合場所:AIRBIC 会議室 3

 (川崎市幸区新川崎7-7 新川崎・創造のもり JR新川崎駅から徒歩10分)

 >>MAPはこちら

 

講  師


 山本 貴富喜(東京工業大学工学院 准教授)

 

実習内容


 フォトレジストへのリソグラフィの体験実習

 

実習機器


 レーザー直接描画装置(DWL66fs)*
   †Hedgerberg Instruments Mikrotechink社製
  *機器詳細仕様は「NANOBICオープンラボ」ホームページhttp://open-labo.skr.jp/の機器一覧をご覧下さい。

 

詳細


 こちらをご覧ください。

 

年間スケジュール


 こちらをご覧ください。

 

新型コロナウイルス感染症について


感染防止措置の一つとして、4大コンソ設備機器利用時にフェイスシールド着用をお願いすることになりました。また、NANOBIC CR前室入口が変更になりました。ご利用前にご一読ください。

 入館手順はこちらをご覧ください。

 

主  催


 ◆4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム

 ◆(地独)神奈川県立産業技術総合研究所

 ◆川崎市

 

定  員


 5名程度(先着)

 

参  加  費


 11,000円(実費+コロナ対策実費)

 

申  込  書


 申込書はこちら

 ※4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム ナノファブスクエア

  講習・実習会(参加申込書)をダウンロードしていただき必要事項をご記入後、

  申込先のメールアドレスへお送りください。

 

申  込  先


 技術担当者:篠原俊朗

 Tel :080-6560-3061
 E-mail :nanobic-open(at)newkast.or.jp  ※(at)を@に変えてください
 (地独)神奈川県立産業技術総合研究所