令和２年度 第１回「ナノファブスクエア 」開催のご案内（会場：NANOBIC）
第１回 フォトマスク作製
企業の技術者や大学研究者を対象に「レーザー直接描画装置」に係る講習・実習会を開催します。
フォトレジストへのリソグラフィの体験実習を行います。
ナノファブスクエアについて
慶應義塾大学、早稲田大学、東京工業大学、東京大学からなる4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアムでは、 川崎市、KISTECと連携し、産学連携による新しい技術や産業の創出を図るため、
新川崎・創造のもりのナノ・マイクロ産学官共同研究施設『NANOBIC』において、4大学の先端機器の利用開放を行っています
日 時
令和２年１０月１日（木）１３：３０～１６：３０
※講習１時間、実習２時間
場 所
かわさき新産業創造センター（KBIC） 集合場所：AIRBIC 会議室 3
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり ＪＲ新川崎駅から徒歩１０分）
講 師
山本 貴富喜（東京工業大学工学院 准教授）
実習内容
フォトレジストへのリソグラフィの体験実習
実習機器
レーザー直接描画装置（DWL66fs）†*
†Hedgerberg Instruments Mikrotechink社製
＊機器詳細仕様は「NANOBICオープンラボ」ホームページhttp://open-labo.skr.jp/の機器一覧をご覧下さい。
詳細
こちらをご覧ください。
年間スケジュール
こちらをご覧ください。
新型コロナウイルス感染症について
感染防止措置の一つとして、４大コンソ設備機器利用時にフェイスシールド着用をお願いすることになりました。また、NANOBIC CR前室入口が変更になりました。ご利用前にご一読ください。
入館手順はこちらをご覧ください。
主 催
◆４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
◆（地独）神奈川県立産業技術総合研究所
◆川崎市
定 員
５名程度（先着）
参 加 費
11,000円（実費＋コロナ対策実費）
申 込 書
申込書はこちら
※４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム ナノファブスクエア
講習・実習会（参加申込書）をダウンロードしていただき必要事項をご記入後、
申込先のメールアドレスへお送りください。
申 込 先
技術担当者：篠原俊朗
Tel ：080-6560-3061
E-mail ：nanobic-open(at)newkast.or.jp ※(at)を＠に変えてください
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所