Effects of post exposure bake temperature and exposure time on SU-8 nanopattern obtained by electron beam lithography

登録コード 709
タイトル Effects of post exposure bake temperature and exposure time on SU-8 nanopattern obtained by electron beam lithography
キーワード
著者/共著者名 Manabu Yasui, Elito Kazawa, Satoru Kaneko, Ryo Takahashi, Masahito Kurouchi, Takeshi Ozawa and Masahiro Arai
誌名・書名 Japanese Journal of Applied Physics
出版社 The Japan Society of Applied Physics
出版年月 2014年 10月
巻−号 Vol.53 No.11S
ページ 11RF03-1 - 11RF03-3
言語 英語
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